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oe1(光电查) - 科学论文

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  • 光学制造材料科学与技术 || 新型工艺与表征技术

    摘要: 现有多种常规的光学制造工艺与表征技术,相关内容在文献[1, 2]中有详细记载。这些技术包括:? 采用干涉测量技术和测试镀层来测量面形、楔角和平行度 ? 运用针式轮廓仪、白光干涉仪和原子力显微镜(AFM)测量表面粗糙度 ? 通过光学显微镜、共聚焦显微镜、暗场显微镜及目视检测评估表面质量 ? 利用波美密度浮子、pH传感器和粒度分析仪表征抛光液 ? 使用硬度计检测抛光盘材料(尤其是沥青)特性 本章将介绍一些能深入洞察光学制造过程的新颖技术(可能还包括鲜为人知的技术)。前文第2-5章重点阐述了光学制造过程中及完成后决定工件基本特性的现象,即面形、表面质量、表面粗糙度和材料去除率。本章探讨的新型工艺与表征技术,是为可能希望运用这些方法的光学制造工程师或磨镜技师而介绍的。

    关键词: 光学制造、原子力显微镜、干涉测量法、表征技术、抛光浆料

    更新于2025-09-09 09:28:46