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两步后处理对HfO?/TiO?/SiO?多层高反射膜光学性能、微观结构及纳秒激光损伤阈值的影响
摘要： 采用电子束沉积的HfO2/TiO2/SiO2周期性多层高反膜分别经过两步后处理和热退火后处理。对比研究了薄膜的光学性能、微观结构、表面形貌及激光损伤阈值(LIDT)。结果表明：两步后处理增强了高反膜的致密度，降低了膜层表面粗糙度与缺陷。测试显示经两步后处理的HfO2/TiO2/SiO2高反膜LIDT达到32.8 J/cm2，较未处理膜提升110.26%；相比热退火后处理的高反膜，两步后处理使LIDT提高近27.6%。高反膜的两步后处理能有效去除膜表缺陷，减少膜内氧空位，从而进一步提升高反膜的激光损伤阈值。
关键词： 激光诱导损伤阈值，HfO2/TiO2/SiO2，两步后处理，热退火，多层高反射膜
更新于2025-09-19 17:13:59
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近场诱导的等离子体纳米粒子飞秒击穿
摘要： 我们研究了光刻制备的等离子体纳米粒子在激光强度递增时的飞秒击穿演变过程。使用峰值强度达1.4×1012 W/cm2的40飞秒激光脉冲可产生局域等离子体。损伤形貌随强度变化显著，初期表现为热点剥离与随机纳米粒子移除；更高强度下则通过烧蚀观察到近场分布的精确纳米光刻映射。这些现象的共同特征在于所用三角形纳米粒子单等离子体热点的核心作用。我们还根据阵列上的随机损伤趋势推导出损伤阈值，为非线性等离子体学新型纳米结构的优化提供依据。
关键词： 激光诱导损伤阈值，等离子体纳米粒子，等离子体学，场增强映射
更新于2025-09-12 10:27:22
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高功率或峰值强度激光应用中控制向列相液晶抗损伤性能的参数研究
摘要： 我们研究了饱和与不饱和液晶（LC）在广泛激光激发条件下的抗损伤能力，包括1053纳米波长下600飞秒至1.5纳秒的脉冲持续时间，以及351纳米和532纳米波长的纳秒脉冲激发。该研究探讨了液晶抵抗激光诱导击穿（损伤）的能力与其组成分子的电子结构（π电子离域）之间的关系。所有波长和脉冲持续时间下的激光诱导损伤阈值在饱和材料中始终高于其不饱和对应物。结果中的波长依赖性表明，导致激光诱导击穿的能耦合过程受基态与第一、第二激发态之间能量差的控制，而结果中的脉冲持续时间依赖性揭示了激发态间电子弛豫的重要作用。我们建立了一个定性描述来解释实验观察结果。
关键词： 激光诱导损伤阈值、液晶、饱和材料、非饱和材料、π电子离域
更新于2025-09-11 14:15:04
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一种疏水性超低折射率二氧化硅涂层，用于制备具有极高真空稳定性和激光损伤阈值的双层宽带减反射涂层
摘要： 我们报道了一种通过一步碱催化溶胶-凝胶法制备折射率可调纳米多孔二氧化硅涂层的方法，该工艺以正硅酸乙酯为前驱体、六甲基二硅氮烷为改性剂，在环境条件下完成。本方法具有成本低廉、无需蚀刻剂且无需高温煅烧处理的优点。重要的是，通过改变起始溶液的单体比例可调控涂层孔隙率，使其适用于宽带增透膜顶层。在熔融石英基底上实现了底层和顶层折射率分别为1.27和1.16的三波长宽带增透膜，在351 nm、527 nm和1053 nm波长处分别获得99.6%、98.0%和99.3%的高透过率。此外，双层涂层在真空环境下经聚二甲基硅氧烷污染测试一周后仍表现出显著稳定性。该双层涂层在351 nm波长6.3 ns激光脉冲下的激光损伤阈值高达约19.0 J·cm?2。这种兼具优异宽带增透性能、高激光损伤阈值及卓越真空稳定性的双层增透膜，为探索高功率激光系统应用开辟了新途径。
关键词： 减反射涂层、激光诱导损伤阈值、高功率激光系统、溶胶-凝胶、真空稳定性
更新于2025-09-04 15:30:14