退火温度对化学浴沉积法制备的Mn3O4薄膜物理性能的影响

摘要： 本研究中，采用化学浴沉积法（CBD）在商用显微镜玻璃基底上于30℃制备了Mn3O4薄膜。该薄膜分别在100℃、200℃、300℃、400℃和500℃的空气氛围中退火处理一小时。通过实验测定了退火温度对薄膜结构及光学性能的影响，包括消光系数（k）、折射率（n）、介电常数的实部（ε1）与虚部（ε2）以及能带隙等光学常数。采用的表征技术包括X射线衍射（XRD）、紫外-可见分光光度计和霍尔效应测量。XRD分析表明薄膜呈四方相多晶结构生长。测得薄膜电导率随退火温度的变化范围为(1.32-6.65)×10?? (Ω·cm)?1。