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[Springer博士论文系列] 高速硅基光互连用CMOS兼容关键工程器件 || 总结与未来工作
摘要: 本论文主要聚焦硅光子学中的四个重要科学问题:硅电光调制器、先进复用机制、偏振控制及光纤-芯片耦合。系统提出了硅电光调制器的设计理论,探究了先进复用机制,研究了偏振控制器件,并探索了光纤-芯片耦合技术。研究展示了采用商用130纳米CMOS工艺制备的高性能器件,包括高速载流子耗尽型硅电光调制器、波分复用器件、偏分复用器件、模分复用器件以及超紧凑型偏振分束旋转器。该工作旨在通过提供适用于高速硅基光互连的CMOS兼容解决方案,为硅光子学领域作出贡献。
关键词: 复用机制、与CMOS兼容、光纤到芯片耦合、偏振控制、电光调制器、硅光子学
更新于2025-09-10 09:29:36
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[IEEE 2018年第20届透明光网络国际会议(ICTON) - 布加勒斯特(2018.7.1-2018.7.5)] 2018年第20届透明光网络国际会议(ICTON) - 飞法拉级光电耦合与低延迟纳米光子计算
摘要: 我们证明,通过使用光子晶体,可将光电探测器、电光调制器等光-电/电-光转换器件的电容降至飞法(fF)量级,从而显著提升能量效率。研究表明,片上高速光接收器无需任何电能即可运行,且通过组合飞法级光电探测器和飞法级电光调制器可实现准全光非线性器件。包含这类飞法级光电器件在内的集成纳米光子技术,将助力实现低延迟光计算的"光通门"逻辑电路。我们展示了包括全加器电路在内的多种新型设计方案,并提出了能实现极低延迟的线性光学逻辑门。
关键词: 光电探测器、纳米光子学、光计算、光晶体管、电光调制器、光子晶体
更新于2025-09-10 09:29:36
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用于干涉式调制显示器的石墨烯机械像素
摘要: 基于微机电系统的电光调制器已成功应用于光学投影仪元件、简化型光谱仪以及利用光干涉的反射式屏幕(干涉式调制显示器技术)。后一概念为石墨烯纳米机械结构替代传统微机电器件提供了新思路,可显著提升性能——尤其是开关速度和驱动电压方面。本研究通过光谱与频闪实验,探究了电致驱动石墨烯鼓膜的光学响应特性。这些薄膜在产生目标电光调制时展现出的色彩还原度与响应速度,使其适合作为高刷新率显示器的像素单元。作为概念验证,我们展示了一款石墨烯干涉式调制显示器原型:由直径5微米的像素构成高分辨率图像(每英寸2500像素,相当于12K分辨率的5英寸显示屏),其色彩可在至少400赫兹帧率下实现切换。
关键词: 高刷新率显示器、电光调制器、干涉式调制显示器、微机电系统、石墨烯
更新于2025-09-10 09:29:36
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少层磷烯中线性二向色性与法拉第旋转的电场调制
摘要: 电光调制器利用电压(或电?。├吹骺毓馐?,是现代通信设备中的关键元件。通过结合自洽紧束缚方法与标准久保公式,我们发现少层黑磷的光学电导率和线性二向色性可通过垂直电场进行调控。研究发现,电场诱导的电荷屏蔽对光学电导率和线性二向色性的调制起重要作用。由于沿面外方向的强量子限域效应及电场诱导的禁带-导带跃迁,导电谱中会出现显著的吸收峰。随着黑磷层数增加,线性二向色性的电场调制效应更为明显。研究还表明,即使无外磁场存在,少层黑磷仍表现出法拉第旋转现象——这种光学霍尔效应源于少层黑磷晶格对称性的降低。法拉第旋转深受电场诱导电荷屏蔽的影响,且强烈依赖于垂直电场强度与黑磷层数。
关键词: 电场调制、线性二向色性、光学电导率、法拉第旋转、电光调制器、少层磷烯
更新于2025-09-09 09:28:46
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用于光学应用的外延铁电氧化物薄膜
摘要: 铁电材料是非中心对称的晶体材料,具有可通过电场调控的自发极化特性。这类材料对电场的依赖性光学响应使其在调制器、光束偏转器等光学器件中具有重要应用价值。随着器件微型化趋势的不可阻挡,集成薄膜光学器件的概念推动了铁电薄膜在单晶衬底上的集成应用。这些结构不仅展现出优异的电光调制特性、有趣的应变相关带隙与折射率特性,还为太阳能收集提供了广阔前景。本文综述了用于光学应用的铁电(FE)外延薄膜研究进展:首先阐明FE薄膜材料在集成电光调制器中的优势,继而揭示外延应变可增强薄膜的铁电性能与光学功能;随后介绍FE薄膜材料体系的某些光伏功能特性;最后重点展示了几种利用上述光学效应的薄膜器件。
关键词: 外延应变、电光调制器、薄膜、光伏、光学应用、铁电材料
更新于2025-09-09 09:28:46