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[IEEE 2018年第31届国际真空纳米电子学会议(IVNC) - 日本京都 (2018年7月9日-2018年7月13日)] 2018年第31届国际真空纳米电子学会议(IVNC) - 磷掺杂纳米晶金刚石薄膜的结构表征与发射特性
摘要: 采用等离子体增强化学气相沉积法(PECVD),以H2、CH4和PH3混合气体为前驱体,在n型硅衬底上生长了磷掺杂纳米晶金刚石(NCD)薄膜,用于冷阴极应用。通过室温下532 nm绿光拉曼光谱、扫描电子显微镜、透射电子显微镜及电子能量损失谱对结构特性进行了表征。所生长的薄膜具有良好的导电性,其典型结构由尺寸约20-100 nm的sp3金刚石晶粒与sp2晶界组合构成。通过与单晶、NCD薄膜及尖端阵列NCD进行对比,测试了电子发射特性。结果表明尖端阵列NCD具有优异的发射性能,其阈值电场更低且饱和电流更高。
关键词: 结构表征、纳米晶金刚石(NCD)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)、电子发射器、磷掺杂
更新于2025-09-23 15:21:21