采用离子束测量研究真空电弧放电法在不同基板上沉积的TiN薄膜

摘要： 采用真空电弧放电系统在不同基底上沉积了氮化钛薄膜。通过弹性背散射（EBS）和核反应分析（NRA）等同步离子束分析技术，对制备的TiN薄膜进行了成分分析和厚度测量。实验条件经过优化以避免不同核反应产物峰值的重叠，特别是与离子束和完全不同基底中轻元素相互作用相关的峰值。同时采用飞行时间弹性反冲检测分析（TOF-ERDA）、配备能量色散X射线分析（EDX）的扫描电子显微镜（SEM）以及X射线衍射（XRD）等独立互补测量方法，验证了EBS和NRA测量获得的实验结果。结果表明，所有制备的TiN薄膜N/Ti比约为1，且杂质元素含量较低。