衬底台温度和旋转速率对射频溅射Bi2.1Dy0.9Fe3.9Ga1.1O12石榴石薄膜磁光性能的影响

摘要： 采用射频磁控溅射技术在石英衬底上制备了高度铋取代的铁石榴石薄膜。我们研究了影响Bi2.1Dy0.9Fe3.9Ga1.1O12组分铁氧体石榴石薄膜磁光(MO)性能的因素(与射频磁控溅射沉积技术相关的工艺参数)。所有薄膜经退火处理后均显示出在整个可见波长范围内的高磁光响应。特别研究了衬底台温度和旋转速率对薄膜各项性能的影响。实验结果表明，这类石榴石薄膜的特性可被调控和优化，用于各种磁场驱动的纳米光子学和集成光学器件；与其它旋转速率下沉积的薄膜相比，在衬底台旋转速率接近每分钟16转时，所开发的磁光薄膜具有最佳的磁光品质。据我们所知，这是首次报道沉积参数对这种化学计量比石榴石薄膜性能影响的研究。