利用高度电离脉冲等离子体合成先进薄膜与纳米粒子

摘要： 脉冲等离子体工艺为薄膜和纳米颗粒合成中采用极高等离子体密度及调制沉积提供了可能。高等离子体密度使源材料达到高度电离状态，从而为表面工程开辟了新途径。与原子相比，离子的能量和方向更易控制，这对薄膜生长具有优势。此外，离子还能提高气相生长纳米颗粒对材料的捕获概率。源材料的脉冲溅射喷射还产生其他效应：等离子体中的材料与生长表面的材料到达量将剧烈波动，导致脉冲开启期间出现高度过饱和状态。本文概述了高电离脉冲等离子体的产生特性，并总结了此类放电在薄膜与纳米颗粒生长领域中的应用与重要性。