粒子原子层沉积

摘要： 通过原子层沉积（颗粒ALD）对微细初级颗粒进行功能化处理，可在包括纳米颗粒表面在内的颗粒内外表面共形沉积近乎完美的纳米级薄膜。通过依次实施有限次数的自限性表面反应，可轻松将薄膜厚度控制在几埃至纳米范围内。薄膜既可以是连续的，也可以是半连续的。本综述首先简述颗粒ALD的早期发展历史，内容涵盖搅拌式反应器工艺、原子层与分子层沉积（MLD）、无机及聚合物颗粒/纳米颗粒/纳米管的包覆技术，并介绍了多项应用案例，最后指明了发展路径（包括近期可能实现的商业产品）。