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锡掺杂辅助下自组装NiO表面网络的制备与研究
摘要： 表面复杂图案化通常需要在时间、成本和先进后处理设计方面投入大量精力，而通过自组织机制可避免损伤表面材料并增强目标性能，从而克服这一难题。本研究在受控氩气流中经1400°C热处理，并借助生长过程中引入锡元素，成功制备了网格自组装氧化镍复杂表面。这种独特形貌能构建具有宽范围表面特性和功能性的高比表面积坚固表面?；谝幌盗谢ゲ辜际醯难芯?，我们探讨了这些纹理表面形成的机理，并分析了氧化镍的基本电子和光学特性——这两方面对于推动这种日益受到关注的p型材料潜在应用开发至关重要。这些独特的微纳结构展现出块体氧化镍样品罕有的高发光性和可调性能，可拓展该材料在发光器件中的应用。此外，表面演化过程以可控方式取决于掺杂锡的电荷优先态，后者可通过选择合适的锡基前驱体、其与金属镍起始前驱体的比例以及制备处理的气氛和时长来调控。最后，为评估某些潜在氧化镍基应用与表面表征认知的关联性，我们还测试了锡掺杂氧化镍样品对乙醇的气敏响应。这些网格图案化表面生长过程及机理的研究可推广至类似氧化物体系。
关键词： 表面图案化、发光、氧化镍
更新于2025-09-19 17:13:59
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可紫外光固化的含液态体积膨胀单体的纳米压印抗蚀剂
摘要： 在紫外纳米压印光刻（UV-NIL）技术中，光刻胶在固化过程中的体积收缩不仅影响图案保真度，还会因强粘附力导致脱模过程产生缺陷。为解决这一问题，本研究开发并表征了一种新型纳米压印光刻胶。该新配方包含3,9-二乙基-3,9-双(烯丙氧甲基)-1,5,7,11-四氧杂螺[5.5]十一烷（DB-TOSU），这是一种液态螺环原碳酸酯单体，在酸催化聚合时会发生体积膨胀。通过将DB-TOSU与常规的体积收缩型环氧单体按不同重量比混合，所配制的光刻胶具有显著降低甚至零体积收缩的特性。随着配方中DB-TOSU重量比的增加，光刻胶的体积收缩率、弹性模量和脱模力均随之降低。当DB-TOSU含量达到50 wt.%时，脱模力降低了69%，同时保持了适当的弹性模量（75 MPa）和低收缩率（1.86%）。这种新型光刻胶配方有望实现高保真图案复制，并减少UV-NIL工艺中的脱模缺陷。
关键词： 表面图案化、抗蚀剂、紫外光固化、纳米压印、粘附力
更新于2025-09-09 09:28:46