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全口径抛光过程中非均匀材料去除的理论模型与实验分析
摘要： 全口径抛光是制造高精度面形大尺寸平面光学元件的关键工艺。在抛光过程中控制主要取决于材料去除分布的面形具有挑战性。本研究提出了一种新型模型来计算材料去除分布及由此产生的面形。该模型通过考虑相对于抛光垫的滑动轨迹上的运动学参数和压力分布，来确定工件上各点的材料去除量。此外，抛光过程中的压力分布是根据抛光垫的机械和形态特征获得的。利用该模型，模拟了多种抛光条件下的最终面形，发现与实验结果高度吻合。
关键词： 全口径抛光、表面面形、压力分布、材料去除分布
更新于2025-09-23 15:21:01
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光学制造材料科学与技术 || 表面面形
摘要： 如第1.2节所述，最终光学元件的主要特征之一是表面面形（即工件的长程表面形状）。实现理想的面形是光学元件制造的主要目标，因为面形会影响入射光在透射和反射时的波前修正。从最基本的层面来说，在不考虑残余应力变化的情况下，工件的最终表面面形仅由其初始表面形状以及工件表面各点被去除的材料量决定。因此，要定量（即确定性）地确定特定精加工过程中面形的演变，就必须了解所有影响材料去除率的现象及其随时间的变化规律。描述和组织这些现象的一个有效方法是扩展传统的材料去除率普雷斯顿方程（公式(1.3)）。普雷斯顿方程可以更一般化地表述如下：[1]
关键词： 材料去除率、普雷斯顿方程、表面面形、光学加工、抛光
更新于2025-09-09 09:28:46