利用光谱椭偏仪观测金薄膜的光学特性

摘要： 在这项研究工作中，我们尝试采用三种沉积技术（直流磁控溅射、脉冲直流磁控溅射和脉冲激光沉积）在二氧化硅（SiO2）包覆的硅（Si）基底上合成纳米结构金薄膜。通过光谱椭偏仪进行的光学测量显示，不同合成方法制备的薄膜介电常数存在差异。这是预期之中的结果，因为不同合成方法会产生不同的微观结构。微观结构的差异导致电子结构不同，进而造成光学响应的差异。