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采用三异丙醇铝(ATIP)的氧化铝(Al?O?)原子层沉积:一项实验与理论相结合的研究
摘要: 铝前驱体在Al2O3原子层沉积(ALD)过程中起着关键作用。迄今为止,三甲基铝(TMA)是实验和理论研究中最广泛使用的前驱体之一。然而,由于三甲基铝具有自燃性且与水极度反应,在工业规模应用中可能存在安全风险。铝醇盐提供了有前景的替代方案,但受到的关注较少。本研究以三异丙醇铝(ATIP)作为铝醇盐前驱体的典型代表,对Al2O3 ALD过程进行了理论与实验相结合的研究。实验结果表明,在150°C至175°C温度范围内,采用ATIP与水的热ALD过程具有1.8 ?/周期的最大生长速率(GPC)。基于原位质谱分析和密度泛函理论(DFT)计算,氧化铝薄膜的形成主要发生在水脉冲阶段,通过水与吸附前驱体之间的配体交换反应实现;而在ATIP脉冲阶段仅发生ATIP的吸附和/或其解离。设计以醇盐基团为基本配体的杂配体前驱体虽具挑战性,但对未来工业规模的Al2O3 ALD极具前景。
关键词: Al2O3(氧化铝)、DFT计算(密度泛函理论计算)、原子层沉积、三异丙醇铝、配体交换反应
更新于2025-09-23 15:19:57