高性能垂直排列KNN纳米线阵列的铁电性能与相变（采用脉冲激光沉积法制备）

摘要： 采用脉冲激光沉积法（PLD）在Pt/TiO?/SiO?/Si衬底上合成了K?.?Na?.?NbO?（KNN）压电纳米线阵列。通过采用与先前报道不同的两种沉积条件，成功制备了这些阵列。X射线衍射分析确认其具有正交晶系结构并存在少量次相。压电力显微镜测试证实了铁电性与压电性，显示该纳米线阵列的有效压电系数d??eff分别达到94.6 pm/V和133.6 pm/V，高于既往报道数值。利用脉冲激光光声技术分析相变温度，显示在约170°C发生O-T相变，在约360°C发生T-C相变，均低于块体陶瓷的相应温度。此外还检测到微量次生铁电相（K?Nb?O??）的存在。