在PET基板上室温射频磁控溅射沉积氢化掺镓氧化锌薄膜用于PDLC器件

摘要： 本工作采用射频磁控溅射技术在室温下于聚对苯二甲酸乙二醇酯衬底上沉积了氢化镓掺杂氧化锌（HGZO）薄膜。系统研究了射频功率与氩氢混合气体流量对HGZO薄膜电学及光学性能的影响。所有HGZO薄膜在可见光范围内均表现出约77.3-82.9%的高平均透过率，最小电阻率低至7.1×10?? Ω·cm?；贖GZO薄膜的聚合物分散液晶器件也成功实现了潜在应用验证。