模型有机/绝缘体/金属界面结构的定量测定

摘要： 通过结合X射线光电子能谱、X射线驻波和扫描隧道显微镜技术，我们研究了典型有机/绝缘体/金属界面的几何与电子结构——即单层六方氮化硼（h-BN）覆盖的Cu(111)基底上的钴卟啉分子体系。具体而言，我们测定了该有机分子的吸附高度，发现其保持了原始平面分子构型（与直接吸附在Cu(111)表面时不同）。此外，我们重点揭示了h-BN间隔层提供的电子解耦效应，并证实分子吸附未显著改变h-BN与金属的间距。最后，我们观察到吸附高度可能存在温度依赖性，这可能是弱键合分子呈现强各向异性热振动的特征表现。