在当今的电子电工领域,为工业加工、通信或配电系统选择核心光源时,光纤激光与半导体激光(常直接称为激光二极管)的抉择是工程师们无法绕开的关键议题。这两种技术路线截然不同,直接影响到设备性能、系统稳定性及长期运营成本。理解它们的核心差异、优劣势以及适用场景,对于优化生产流程、选对电工工具乃至提升整个系统的能效都至关重要。这不仅是一个技术选型问题,更关乎企业的核心
K-Alpha+ XPS光谱仪
XPS光电子能谱仪 表面化学分析 薄膜表征 深度剖析 化学状态成像 高性能光谱分析
K-Alpha+ XPS光电子能谱仪是一款高性能的表面化学分析仪器,专为表面和薄膜表征设计,能够快速、强大且易于使用。
顶刊高频之选
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专业选型
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正规认证
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品质保障
严格把控产品质量,呈现理想的光电产品,确保每一件产品都能满足您的专业需求。
概述
参数
- 分析区域尺寸 / Analysis Area Size : 30-400μm(以5μm步进)
- X射线源功率 / X-Ray Source Power : 最大72W
- X射线源类型 / X-Ray Source Type : Al Kα微聚焦单色器
- 分析仪类型 / Analyzer Type : 180°双焦点半球分析仪
- 探测器通道数 / Detector Channels : 128通道
- 样品台尺寸 / Sample Stage Size : 60×60mm
- 样品最大厚度 / Maximum Sample Thickness : 20mm
- 真空系统 / Vacuum System : 两台250L/s涡轮分子泵,自动点火,3灯丝TSP
- 电荷补偿系统 / Charge Compensation System : 双束离子枪,超低能量共轴电子和Ar离子束
- EX06离子枪能量范围 / EX06 Ion Gun Energy Range : 100eV至4keV
- 软件 / Software : Avantage软件,支持离线数据处理
应用
1. 玻璃涂层 2. 聚合物 3. 电池 4. 石墨烯 5. 太阳能电池 6. OLEDs 7. 金属和氧化物 8. 生物表面 9. 薄膜 10. 半导体 11. 陶瓷 12. 催化剂
特征
1. 高性能光谱分析 2. 化学状态成像 3. 深度剖析功能 4. 单击电荷补偿系统 5. 自动化样品处理和实验设置
图片集
规格书
AI 智能分析
该产品已被1篇SCI论文引用
基于平台30万篇光学领域SCI论文分析
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通过电解氮掺杂纳米网状石墨烯制备的氮掺杂石墨烯量子点用于铁离子的荧光测定
荧光寿命 带隙 动态猝灭 碳布电极 电化学氧化
通过直接电解负载氮掺杂纳米网状石墨烯(NG)的碳布电极,高产率(约25%)合成了氮掺杂石墨烯量子点(N-GQDs)。该N-GQDs发射出强烈的蓝色荧光,量子产率(QY)为10%±3%。同时,N-GQDs富含羟基、羧基、碱性吡啶氮和硝基,这些基团有助于增强N-GQDs与Fe3?的相互作用,从而实现对Fe3?离子的高灵敏检测。具体而言,在不同浓度的N-GQD溶液中对Fe3?进行测定,其线性范围宽达10–1000 μM(150 μg·mL?1),检测限低至0.19 μM(10 μg·mL?1)。此外,荧光猝灭机制表明,电化学氧化产生的官能团增强了N-GQDs与Fe3?的相互作用,而N-GQDs的窄带隙(2.83 eV)使其易于实现从N-GQDs到Fe3?的电子转移。
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纳米材料与技术实验方案
1. 实验设计与方法选择:通过电化学氧化氮掺杂纳米网状石墨烯(NG)包覆的碳布电极合成N-GQDs。 2. 样品选择与数据来源:碳布电极由含NG和PTFE粘结剂的乙醇混合液涂覆制备而成。 3. 实验设备与材料清单:透射电子显微镜(TEM)、原子力显微镜(AFM)、傅里叶变换红外光谱(FT-IR)、X射线光电子能谱分析(XPS)、拉曼光谱、紫外-可见分光光度计、荧光分光光度计、电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-OES)。 4. 实验步骤与操作流程:将电极干燥后作为直流电源装置的阳极,以铂箔为对电极。电解液经透析和冷冻干燥后备用。 5. 数据分析方法:测量荧光发射光谱并计算量子产率,研究N-GQDs对Fe3?的灵敏度与选择性。
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电话
单位名称
用途