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Crossbeam Family 光谱分析仪

Crossbeam Family

分类： 光谱分析仪

厂家： 蔡司

产地： 德国

型号： Crossbeam Family350/550

更新时间： 2025-11-21T03:28:28.000Z

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标签：

自动化 半导体 高分辨率 高通量 样品制备 材料科学 纳米技术

简介：

ZEISS Crossbeam系列结合了场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）和下一代聚焦离子束（FIB）的强大成像和分析性能，适用于高通量3D分析和样品制备。

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概述

ZEISS Crossbeam系列结合了场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）和下一代聚焦离子束（FIB）的强大成像和分析性能，适用于高通量3D分析和样品制备。

参数

  • 电子枪类型 / Electron Gun Type : Schottky emitter
  • 加速电压范围 / Acceleration Voltage Range : 0.2kV-30kV
  • 分辨率 / Resolution : 1.4nm@1kV, 0.7nm@15kV
  • 离子束电流范围 / Ion Beam Current Range : 1pA-100nA
  • 离子束分辨率 / Ion Beam Resolution : <3nm@30kV
  • 探测器类型 / Detector Type : SE
  • 探测器类型 / Detector Type : Inlens SE
  • 探测器类型 / Detector Type : EDS
  • 探测器类型 / Detector Type : EBSD
  • 探测器类型 / Detector Type : WDS
  • 探测器类型 / Detector Type : SIMS
  • 样品室尺寸 / Chamber Size : Standard 10 configurable ports
  • 样品台移动范围 / Stage Movement Range : X/Y: 125mm, Z: 100mm, T: -10° to +70°, R: 360°
  • 激光类型 / Laser Type : Diode pumped solid state laser
  • 激光波长 / Laser Wavelength : 515nm
  • 激光脉冲持续时间 / Laser Pulse Duration : <350fs
  • 激光光斑尺寸 / Laser Spot Size : <15μm
  • 气体类型 / Gas Type : Xe, C, W, H2O, SO2
  • 存储分辨率 / Store Resolution : 512×384 to 32k×24k
  • 自动化样品制备 / Automated Sample Preparation : Maximum 1 in 10 lamellae require operator intervention
  • 通量 / Throughput : Maximum 8 hours for one complete process
  • 端点控制 / Endpoint Control : Continuous SEM imaging, re-milling, and on-the-fly adjustment

应用

1. 高通量3D分析 2. 样品制备 3. TEM样品薄片制备 4. 材料科学研究 5. 半导体行业 6. 纳米技术研究

特征

1. 高分辨率成像 2. 高通量样品制备 3. 自动化TEM样品薄片制备 4. 支持多种检测器 5. 激光辅助深层结构分析 6. 可编程远程接口

图片集

Crossbeam Family350/550图1
Crossbeam Family350/550图2
Crossbeam Family350/550图3
Crossbeam Family350/550图4
Crossbeam Family350/550图5
Crossbeam Family350/550图6
Crossbeam Family350/550图7

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该产品已被47篇SCI论文引用

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    通过狭缝涂布印刷技术制备了具有定制纳米结构的中孔二氧化钛薄膜，该技术是一种简单、经济高效的薄膜沉积工艺，具备大规模制造潜力。基于这一工业友好型技术，二氧化钛薄膜具有与聚合物半导体器件相似的优势，例如易于规?；?。通过所谓的嵌段共聚物辅助溶胶-凝胶合成法，实现了包括泡沫状纳米结构、纳米线聚集体、塌陷囊泡和纳米颗粒在内的多种二氧化钛形貌。通过调节反应物的重量分数，在去除模板后探究了印刷二氧化钛薄膜的三元形貌相图。分别采用扫描电子显微镜和掠入射小角X射线散射技术研究了表面及内部形貌演变。特别关注泡沫状二氧化钛纳米结构，因其对太阳能电池应用等具有特殊价值。当二氧化钛前驱体异丙醇钛（TTIP）的重量分数较低时，可获得具有高均匀性且大孔径的泡沫状二氧化钛薄膜。通过X射线衍射和透射电子显微镜验证了高结晶度二氧化钛薄膜的锐钛矿相。

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  • 基于蛋白石基体的有序纳米复合材料的结构参数——根据小角X射线和中子散射数据：蛋白石基体（第一部分）

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  • 材料科学与工程实验方案

    1. 实验设计与方法选择：本研究结合溶胶-凝胶化学与双嵌段共聚物模板（PS-b-PEO）来引导纳米结构形成。采用狭缝涂布法进行大面积薄膜沉积。通过改变1,4-二氧六环、HCl和TTIP的重量分数来探究三元形貌相图。 2. 样品选择与数据来源：薄膜沉积于预清洁的硅（Si）或掺氟氧化锡（FTO）涂层玻璃基底上。共研究了21个组成点。 3. 实验设备与材料清单：化学品包括PS-b-PEO（Polymer Source Inc.）、TTIP（Sigma-Aldrich）、1,4-二氧六环和HCl（Carl Roth）。设备包括狭缝涂布机、微流控装置（PHD 2000 infuse/withdraw，Harvard Apparatus）、场发射扫描电镜（Zeiss NVision 40）、光学显微镜（Axiolab A，Carl Zeiss）、PETRA III（DESY）的GISAXS装置、XRD（Bruker D8 ADVANCE）和TEM（PHILIPS CM200-FEG）。 4. 实验步骤与操作流程：将PS-b-PEO溶解于1,4-二氧六环中，过滤后通过微流控装置与TTIP和HCl混合。溶液以5 mm/s的速度打印在基底上，干燥10分钟，并在450–550°C下煅烧以去除模板并使TiO2结晶。通过优化打印参数控制薄膜厚度。 5. 数据分析方法：表面形貌通过SEM和OM分析。内部形貌通过GISAXS探究，数据使用DWBA、EIA和LMA模型拟合。晶体相和结晶度通过XRD和TEM表征。

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  • 环境工程实验方案

    1. 实验设计与方法选择：本研究探究了光合细菌作为微藻生物膜生长的内光源应用。方法包括培养基筛选试验、光合细菌的亮度和生长特性表征、与微藻的共培养实验以及附着式培养系统。理论模型包含光吸收光谱分析和生长动力学研究。 2. 样本选择与数据来源：使用加拿大藻类培养中心提供的斜生栅藻Scenedesmus obliquus CPCC 157和加拿大Cedarline公司提供的费氏弧菌Photobacterium leiognathi ATCC? 25587?。实验前将样本培养至稳定期。 3. 实验设备与材料清单：手动气候箱（HGZ-150，上海精其），酶标仪（EnVision，珀金埃尔默，美国马萨诸塞州沃尔瑟姆），血球计数板，显微镜，高压灭菌器，96孔板，100立方厘米培养瓶，白色300D聚酯微纤维载体，BG11和LB培养基，氯化钠，蒸馏水。 4. 实验流程与操作步骤：培养基筛选测试含/不含氯化钠的BG11与LB混合液。监测不同接种浓度下光合细菌的亮度及随时间变化的生长情况。共培养实验包含短期光利用测试、不同微藻-光合细菌比例的黑暗共培养，以及连续供液的附着式培养。收集微藻密度、光合细菌密度（OD600）和发光强度数据。 5. 数据分析方法：采用SPSS 19进行t检验（显著性水平p<0.05）。根据发光强度测量计算光去除量和速率?；嬷撇⒔馕錾で哂胛展馄?。

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  • 纳米材料与技术实验方案

    1. 实验设计与方法选择：本研究采用X射线反射率（XRR）、掠入射X射线荧光（GIXRF）和掠入射X射线衍射（GIXRD）原位监测液-气界面的自组装过程，使用Langmuir-Blodgett（LB）和Langmuir-Schaefer技术进行薄膜转移。 2. 样品选择与数据来源：通过HF刻蚀和TMAOH剥离从Ti3AlC2相合成Ti3C2Tx MXene悬浮液，制备不同pH值（酸性和碱性）的悬浮液。 3. 实验设备与材料清单：设备包括透射电镜（TEM，Libra 200，卡尔蔡司）、扫描电镜（SEM，卡尔蔡司NVision40）、原子力显微镜（AFM，NTegra Aura，NT-MDT）、X射线光电子能谱仪（XPS，SPECS）、配备MPT-2自动滴定仪的Zetasizer Nano ZS（马尔文）、ID10光束线（欧洲同步辐射装置ESRF）的XRR/GIXRF/GIXRD装置（含Mythen探测器和Vortex? X射线探测器）、Langmuir槽（NIMA 721）及BAM（Accurion EP3-BAM）。材料包括Ti3AlC2、HF、TMAOH、DOTAB、去离子水。 4. 实验步骤与操作流程：制备MXene悬浮液并通过TEM、SEM、AFM、XPS和zeta电位测量进行表征；混合后通过XRR、GIXRF和GIXRD随时间研究表面层；压缩过程中测量表面压力并记录BAM成像；使用LB技术将薄膜转移至固体基底。 5. 数据分析方法：采用GenX软件配合Parratt形式体系拟合XRR数据，提取表面覆盖率和层参数；使用Gwyddion软件处理AFM和SEM图像。

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厂家介绍

蔡司是一家在光学和光电领域具有国际领先地位的技术企业。在上一财年，蔡司集团在半导体制造技术、工业质量与研究、医疗技术和消费市场四个领域创造了总计75亿欧元的年收入（现状：2021年9月30日）。蔡司为其客户开发、生产和分销用于工业计量和质量保证的高度创新解决方案，用于生命科学和材料研究的显微镜解决方案，以及用于眼科和显微外科诊断和治疗的医疗技术解决方案。蔡司这个名字也是领先的光刻光学的代名词，它被芯片行业用来制造半导体元件。全球对引领潮流的蔡司品牌产品，如眼镜镜片、相机镜头和双筒望远镜有需求。

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