在工业自动化和精密测量领域，激光位移传感器已成为不可或缺的电工工具。无论是检测生产线上的微小偏差，还是监控配电系统中设备的振动幅度，其高精度和非接触式测量的优势显著提升了效率与安全性。然而，面对市场上琳琅满目的型号（如基于激光二极管或光纤元件的产品），许多工程师在选型和应用中仍存在困惑。本文将深入解析激光位移传感器的工作原理、核心参数及典型场景，助您全面掌握
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LITHOSCALE无掩膜曝光光刻系统
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概述
LithoScale系统采用EV Group的MLE?无掩模曝光技术，通过结合强大的数字处理功能，实现实时数据传输和即时曝光、高结构分辨率和吞吐量可扩展性，从而解决传统瓶颈问题。其无掩模方法消除了与掩模相关的耗材，而带有可调固态激光源的曝光系统设计具有高冗余度和长寿命稳定性，并具有独特的自动校准功能，无需维护。强大的实时数字处理功能可实现从设计文件到基板的即时曝光，从而避免每个数字掩模布局的数小时转换时间。LithoScale具有整个基板表面的高分辨率（<2μm L/s）、动态芯片级可寻址曝光，可实现灵活的无耗材处理和低拥有成本（COO）。LithoScale系统集成了全晶圆顶部和背面对准，利用具有可见近红外功能的专用物镜和专有卡盘设计，可适应高达300 mm的晶圆尺寸。该系统具有自动聚焦的动态对准模式，以适应基板材料和表面变化。精细控制聚焦水平位置的能力保持侧壁陡峭以及抗蚀剂的期望3D轮廓，同时防止边缘顶部和底部。大工作距离和自动自适应聚焦确保整个曝光表面的图案均匀性。它还提供个性化的模具加工，同时快速全场定位和动态对准可实现各种基板尺寸和形状的高可扩展性。
参数
- 印刷技术 / Printing Technology : Grayscale Lithography
- 最小 XY 特征尺寸 / Min XY Feature Size : 1000nm
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厂家介绍
EV集团（EVG）是半导体、MEMS、复合半导体、功率器件和纳米技术器件制造的大批量生产设备和工艺解决方案的领先供应商。
EVG是先进封装和纳米技术的晶片级键合和光刻技术领域公认的市场和技术#做的较好的#，其主要产品包括晶片键合、薄晶片加工和光刻/纳米压印光刻（NIL）设备、光刻胶涂布机以及清洁和检查/计量系统。
凭借位于奥地利、北美和亚洲的总部较先进的应用实验室和洁净室，EVG专注于为其全球研发和生产客户及合作伙伴提供卓越的工艺专业知识，从较初的开发到客户现场的较终集成。
EVG成立于1980年，为全球客户和合作伙伴提供服务和支持，在全球拥有1100多名员工，在美国、日本、韩国、中国拥有全资子公司。
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