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在工业自动化和精密测量领域，激光位移传感器已成为不可或缺的电工工具。无论是检测生产线上的微小偏差，还是监控配电系统中设备的振动幅度，其高精度和非接触式测量的优势显著提升了效率与安全性。然而，面对市场上琳琅满目的型号（如基于激光二极管或光纤元件的产品），许多工程师在选型和应用中仍存在困惑。本文将深入解析激光位移传感器的工作原理、核心参数及典型场景，助您全面掌握
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品质保障
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概述
来自Coherent Inc.的COMPEX 102是具有波长193nm、248nm、308nm、351nm、功率4至8W、输出功率（脉冲）4至8W、脉冲能量200至400mJ的激光器。Compex 102的更多细节可以在下面看到。
参数
- 技术 / Technology : Excimer Laser
- 功率 / Power : 4 to 8 W
- 应用 / Application : PLD - Pulsed Laser Deposition, Thin Wafer Processing, Laser Lift-Off/Debonding, LA-ICP-MS
- 增益介质类型 / Gain Medium Type : Gas
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AI 智能分析
SCI论文引用分析
该产品已被2篇SCI论文引用
基于平台30万篇光学领域SCI论文分析
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脉冲激光沉积法制备的外延氧化铁薄膜的结构与光学特性
吸收 功能器件 脉冲激光沉积 三氧化二铁 薄膜
由于与能量转换和存储系统相关的潜在应用，铁氧化物得到了深入研究。本文采用脉冲激光沉积法，在不同氧分压和温度下制备了铁氧化物薄膜，并研究了其晶体结构和光学性质。X射线衍射测量证实，铁氧化物薄膜外延生长在Al2O3(0001)衬底上。随着生长温度从450K升高到800K，薄膜呈现出更优异的赤铁矿相（α-Fe2O3）晶体结构。当压力降至0.5mTorr时，形成了磁铁矿相（Fe3O4）。我们发现，铁氧化物的光学带隙主要源自O 2p到Fe 3d的跃迁，该带隙可在2.18eV至2.42eV范围内调控，适用于能量转换系统。
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通过磷旋涂掺杂剂和脉冲激光熔融实现锗的N型掺杂
锗 旋涂掺杂剂 磷掺杂 半导体 脉冲激光熔融
基于旋涂掺杂源和脉冲激光熔融的锗N型掺杂技术，被提出作为离子注入或分子束外延等复杂昂贵工艺的替代方案。通过研究不同激光能量密度和脉冲次数的影响，采用脉宽22纳秒的KrF激光器对n+/p结进行了优化。通过二次离子质谱和范德堡-霍尔测量确定了扩散分布、方块电阻、载流子浓度及迁移率。通过合理选择激光能量密度范围和脉冲次数，实现了高激活水平（>10^19 cm^-3）、良好迁移率（350-450 cm2/V·s）及低方块电阻（<50 Ω/□）。此外，高分辨率X射线衍射测量证实了样品具有良好的晶体质量，证明了这种低成本制造工艺适用于下一代锗基器件。
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实验方案推荐
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材料物理实验方案
1. 实验设计与方法选择：采用脉冲激光沉积（PLD）技术在Al2O3（0001）衬底上制备氧化铁薄膜。通过直接接触衬底的热电偶进行温度校准。氧分压控制在约0.5毫托至40毫托范围内。使用波长248纳米、重复频率3赫兹的KrF准分子激光器烧蚀金属铁靶材，靶材处的激光能量密度约为4.0焦耳/平方厘米。 2. 样品选择与数据来源：通过X射线衍射仪（XRD）表征氧化铁薄膜的晶体结构，利用紫外-可见（UV-vis）分光光度计测量薄膜的光学性能。 3. 实验设备与材料清单：KrF准分子激光器（COMPex Pro，相干公司，美国）、X射线衍射仪（X'Pert-MPD，飞利浦，荷兰）、紫外-可见（UV-vis）分光光度计。 4. 实验步骤与操作流程：采用PLD技术在Al2O3（0001）衬底上沉积氧化铁薄膜，控制氧分压在约0.5毫托至40毫托范围，随后进行晶体结构和光学性能表征。 5. 数据分析方法：根据紫外光谱吸收边，采用Tauc方程计算光学带隙Eg。
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通过磷旋涂掺杂剂和脉冲激光熔融实现锗的N型掺杂实验方案
1. 实验设计与方法选择：研究采用p型锗晶圆作为基底，在沉积自组装单层（SoD）前去除有机物和氧化锗。通过旋涂法沉积磷基SoD，随后固化以蒸发残留溶剂。样品采用不同能量密度和脉冲次数的KrF激光进行退火处理。 2. 样品选择与数据来源：使用电阻率为1 Ω cm的2英寸p型锗晶圆，采用磷浓度为5×102?原子/cm3的SoD材料。 3. 实验设备与材料清单：相干COMPex 201型KrF激光器、CAMECA公司的二次离子质谱仪（SIMS）、MMR技术公司的范德堡-霍尔测量装置、帕纳科X'PERT PRO高分辨X射线衍射仪（HRXRD）以及Nanoscope III型原子力显微镜（AFM）。 4. 实验流程与操作步骤：完成SoD沉积和固化后，在不同参数条件下进行激光退火。随后去除SoD薄膜，对样品进行掺杂分布、电学性能及晶体质量表征。 5. 数据分析方法：采用SIMS分析掺杂分布，范德堡-霍尔法测定电学特性，HRXRD评估晶体质量，AFM观测表面形貌。
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厂家介绍
Coherent，Inc.是领先的激光和激光技术供应商之一，为科学、商业和工业客户在较苛刻的市场中竞争。我们的激光应用和工具提供先进的解决方案，将您的业务平台提升到新的水平。
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