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在电子电工行业的研发、品控与故障诊断中，红外光谱检测技术正发挥着越来越关键的作用。无论是分析半导体器件的材质纯度，还是诊断配电系统中因过热引发的潜在隐患，该技术都能提供精准的“分子指纹”信息。然而，许多工程师和采购负责人在项目立项时，首先面临的困惑就是：“红外光谱检测价格究竟是多少？它的成本构成是怎样的？”理解红外光谱检测价格的波动因素，对于企业控制研发成本
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概述
来自Thorlabs Inc的LPVIS050-MP2是波长范围为550至1500 nm的偏振器，偏振器直径为12.5毫米（0.49英寸），厚度为280毫米，工作温度为-20至120摄氏度。LPVIS050-MP2的更多详细信息可在下面看到。
参数
- 偏振器类型 / Polarizer Type : Linear Film Polarizers
- 偏振器形状 / Polarizer Shape : Round
- 镀膜材料 / Coating Material : VIS
- 基底/材料 / Substrate/Material : Schott Glass B270
- 表面质量 / Surface Quality : 40-20 scratch-dig
- 透射波前畸变 / Transmitted Wavefront Distortion : λ/4 @ 633 nm
- RoHS / RoHs : Yes
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用于宽带圆偏振到线偏振转换及矢量涡旋光束生成的间隙表面等离子体超表面
宽带 间隙表面等离子体超表面 圆偏振到线偏振转换 矢量涡旋光束
控制和操纵光的偏振态能力在从量子技术到生物医学等诸多现代光学应用中至关重要。本研究设计、制备并实验验证了一种基于间隙表面等离激元超表面的超薄四分之一波片（QWP），该器件能在近红外波段（750-950纳米）200纳米宽频带内实现圆偏振与线偏振的高效宽带转换，平均反射率约85%。基于该QWP设计，进一步推导出通过空间变异性QWP单元生成矢量涡旋光束（VVBs）的通用方法——这种光束具有空间变化的偏振矢量分布并能携带特定轨道角动量。实验证明该超表面在750-950纳米波长范围内能高效产生VVBs，对右旋和左旋圆偏振入射光分别实现约72%和约68%的平均转换效率。该方法可制备紧凑、低成本且高性能的偏振转换器，为任意调控光场的超小型光学器件终极微型化铺平了道路。
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具有空间光调制的灵活可调焦深光声显微镜
空间光调制 光声显微镜 焦深 扩展焦深光束 贝塞尔光束 光学分辨率
通过聚焦激发激光，光学分辨率光声显微镜（OR-PAM）能够测量生物组织内低至微米级横向分辨率的光学吸收特性。由于焦深（DoF）较短导致深度方向横向分辨率不一致，OR-PAM常规采用的高斯聚焦光束无法在不进行深度扫描的情况下获取厚度从数十微米到毫米的生物样本体积图像。本研究将空间光调制器（SLM）集成到OR-PAM光路中以实现焦深的灵活调节。通过简单切换SLM界面上的相位图案，可产生三种代表性照明光束：传统短焦深高斯光束（GB）、针状贝塞尔光束（BB）和扩展焦深光束（EDFB）。这些调制方案基于扩展Nijboer-Zernike理论实现良好调控。光声激发显示焦深范围从数百微米（GB和BB）至1.38毫米（EDFB）不等，但横向分辨率保持一致（约3.5微米）。通过不同深度钨丝的体积成像验证了该方法的有效性。
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结构光照明显微成像的放大率不变表面轮廓测量技术
可调透镜 表面轮廓测量 口内扫描仪 结构光照明 放大率不变性
本文提出了一种结构光照明（SI）表面轮廓测量方法，该方法具有快速成像且图像放大率与深度无关的特点。通过采用电调谐透镜（ETL），可在不移动物体的情况下实现物平面的快速扫描。利用4f中继系统和将ETL置于共轭平面的设计，将物镜焦距变化通常导致的放大率比变化降至最低。采用偏振光学元件规避了ETL未镀膜膜面产生的高反射问题。研究还提出通过改变传统SI成像系统的扫描顺序——先进行深度扫描再进行图案位移，从而充分发挥ETL的快速响应特性。实验表明扫描速度可提升至25倍。论文全面分析了基于ETL的SI轮廓测量原理及相关问题，并通过实验验证了该构想。实验中在保持放大率变化低于0.03的同时实现了35毫米的扫描深度变化，通过对锥形三维物体和人脸石膏像的SI成像展示了其三维轮廓测量能力。该SI成像方法可充分应用于口腔内扫描仪或生物医学成像等需要快速扫描的领域。
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实验方案推荐
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光电信息科学与工程实验方案1
1. 实验设计与方法选择：本研究采用COMSOL Multiphysics进行三维全波仿真，以优化超表面金属-绝缘体-金属单元结构设计。方法包括设计四分之一波片，并通过空间变化单元取向来产生矢量涡旋光束。 2. 样品选择与数据来源：样品制备于镀有金层和二氧化硅层的硅晶圆上。设计基于850纳米波长仿真，性能评估覆盖750-950纳米范围。 3. 实验设备与材料清单：设备包含用于制备的电子束光刻系统、成像用的扫描电子显微镜、照明用的可调谐钛宝石激光器、半波片、线偏振片、四分之一波片、分束器、物镜、透镜、反射镜以及检测用的CCD相机。材料包括金、二氧化硅、钛、聚甲基丙烯酸甲酯和硅基底。 4. 实验流程与操作步骤：制备过程包含电子束光刻、薄膜沉积和剥离工艺。光学表征使用自制装置测量圆偏振光入射下的反射率和偏振态，通过线偏振片和CCD相机分析反射光束?？垢缮媸笛檠橹ど晒馐械南辔黄娴恪? 5. 数据分析方法：数据分析通过斯托克斯参数计算测量强度的线偏振度和线偏振角。效率计算为生成光束功率与入射功率之比，并报告平均值与误差。
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光电信息科学与工程实验方案2
1. 实验设计与方法选择：该研究将空间光调制器（SLM）集成到光学分辨率光声显微镜（OR-PAM）系统中，通过给SLM分配可变相位图案来调制物镜的孔径光阑，从而灵活调节焦点处的光场分布。 2. 样本选择与数据来源：通过成像不同深度钨丝构成的仿体来验证该方法。 3. 实验设备与材料清单：包括倍频Nd:YAG激光器、透镜、偏振片、半波片、反射式纯相位SLM、显微物镜、超声换能器及三维扫描平台。 4. 实验流程与操作步骤：激光输出经准直和偏振处理后由SLM调制，在焦区产生目标光场分布。光声信号经检测、放大和数字化后进行分析。 5. 数据分析方法：通过成像碳丝并分析光声幅值半高全宽（FWHM）来评估横向分辨率与景深。
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光电信息科学与工程实验方案3
1. 实验设计与方法选择：研究采用电调谐透镜（ETL）进行快速深度扫描，并使用4f中继系统以最小化放大率变化。通过偏振光学元件规避ETL表面的高反射。 2. 样本选择与数据来源：成像锥形3D物体和人脸造型石膏像以展示系统的三维轮廓能力。 3. 实验设备与材料清单：电调谐透镜（EL-10-30-C-VIS-LD-MV，Optotune）、中继透镜（AC254-100-A-ML，Thorlabs）、LED光源（M470L3，Thorlabs）、线性偏振片（LPVIS100-MP2，Thorlabs）、相机（MQ003CG-CM，XIMEA）。 4. 实验流程与操作步骤：将ETL置于4f中继系统的共轭平面。调整扫描顺序，优先执行深度扫描再进行图案位移以实现快速扫描。 5. 数据分析方法：通过在不同扫描距离下成像分辨率靶标来测量放大率变化。
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Thorlabs致力于以快速有效的服务，为客户供应高品质的光电产品及附属产品。索雷博, 光学平台, 光学元件, 位移台, 光纤跳线, 激光器, 二极管驱动, 宽谱光源, 光电探测, 光束分析, OCT成像, 成像系统, 压电陶瓷, 光电实验室
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