在当今的电子电工领域,为工业加工、通信或配电系统选择核心光源时,光纤激光与半导体激光(常直接称为激光二极管)的抉择是工程师们无法绕开的关键议题。这两种技术路线截然不同,直接影响到设备性能、系统稳定性及长期运营成本。理解它们的核心差异、优劣势以及适用场景,对于优化生产流程、选对电工工具乃至提升整个系统的能效都至关重要。这不仅是一个技术选型问题,更关乎企业的核心
MQ180-A0,25-VIS
高功率 快速上升时间 线性偏振 强度调制 频移 光电调制器
Free Space AO Modulator/Shifter from 440 to 650 nm
顶刊高频之选
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专业选型
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正规认证
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品质保障
严格把控产品质量,呈现理想的光电产品,确保每一件产品都能满足您的专业需求。
概述
参数
- 光纤类型 / Fiber Type : Free Space
- 声光材料 / Acousto-Optic Material : Fused Silica
- 应用 / Applications : Intensity/amplitude modulation, Frequency Shifter
- 颜色 / Colors : VIS
- 电压驻波比 / VSWR : 1.20:1
应用
1. 高功率应用 2. 快速上升时间应用 3. 强度/幅度调制 4. 频移
特征
1. 小上升时间 2. 高光功率 3. 线性偏振
详述
图片集
规格书
AI 智能分析
该产品已被1篇SCI论文引用
基于平台30万篇光学领域SCI论文分析
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利用金刚石氮-空位磁测法观测到金属导线中电流密度的表观离域现象
金刚石磁测法 氮空位中心 毕奥-萨伐尔定律 安培定律 磁场成像 电流密度
我们报道了对绝缘金刚石衬底上金属微丝中连续电流产生的磁场进行的定量分析。通过氮空位(NV)色心层(该色心层经人工设计位于金刚石表面附近)进行光学检测磁共振光谱测量,获取塞曼位移数据从而绘制矢量磁场的空间分布图。研究发现面内磁?。雌叫杏诮鸶帐砻娴拇懦。┫灾跤谠げ庵?,而面外磁场也呈现异常调制现象。当假设电流完全局限在金属导体内(与电流密度分布细节无关)时,实测磁场与安培环路定律及磁高斯定律均不相容——该结果在多个金刚石样品中复现,其中对安培定律的测量偏差高达94(6)%(即15倍标准差违背)。为解释这一磁异常现象,我们提出广义描述模型:允许电流同时在NV传感层上方(包括金属微丝内部)和下方(即金刚石内部)流动?;诟盟ǖ滥P偷谋劝?萨伐尔定律反演,可唯一确定两种电流密度的解,该解完全吻合实验数据、符合经典电动力学定律,且其NV测量总电流值与电学测量电流高度一致。但该模型同时得出惊人结论:在某些情况下多数电流似乎流经金刚石衬底而非金属微丝,并沿微丝横向在金刚石中扩散数微米距离。邻近测试微丝间未观测到电导通现象,排除了常规导电效应。即便在金属微丝与金刚石间插入绝缘层或将金属微丝替换为石墨烯带,电流向金刚石的表观离域化现象依然存在。虽然讨论了测量误差、数据分析问题或电流诱导磁化效应的可能性,但这些解释均不如上述模型合理。理解和消除这一异常现象,对未来将NV磁测技术应用于电荷输运研究至关重要。
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光电信息科学与工程实验方案
1. 实验设计与方法选择:该实验利用金刚石中的氮空位(NV)色心作为矢量磁力计,对金属导线中直流电流产生的杂散磁场进行成像。采用定制的宽场荧光显微镜,通过脉冲光检测磁共振(ODMR)光谱测量NV自旋的塞曼位移。 2. 样本选择与数据来源:通过不同能量和注量的氮离子注入单晶金刚石板,在8纳米至28纳米深度形成NV层。采用光刻和电子束蒸镀工艺在金刚石表面制备金属导线(钛/金或铬/金)。 3. 实验设备与材料清单:金刚石衬底、氮离子注入机、光刻设备、电子束蒸发器、绿光激光器(532纳米)、微波天线、电流源、sCMOS相机、脉冲模式发生器,以及钛、铬、金、氧化铝和石墨烯等材料。 4. 实验流程与操作步骤:制备NV-金刚石样品及金属导线。将器件安装于盖玻片并连接电路。使用显微镜在施加/不施加电流条件下进行ODMR测量。记录光致发光图像和ODMR光谱,拟合光谱提取磁场分量,并扣除背景场以分离电流感应场。 5. 数据分析方法:采用洛伦兹函数拟合ODMR光谱确定共振频率?;贜V自旋哈密顿量计算磁场分量。应用毕奥-萨伐尔定律、安培定律和磁高斯定律。通过傅里叶变换与反演技术重建电流密度分布。
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电话
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