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首页测试和测量光谱仪 VERTEX 80/80v

VERTEX 80/80v 光谱仪

VERTEX 80/80v

分类：光谱仪

厂家：布鲁克光谱仪器公司

产地：德国

型号： VERTEX 80/80v

更新时间： 2024-08-25T22:29:40.000Z

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布鲁克 VERTEX 80/80v 傅立叶变换红外光谱仪

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布鲁克公司的 VERTEX 80 和 VERTEX 80v 真空傅立叶变换红外光谱仪基于主动对准的 UltraScan? 干涉仪，可提供 PEAK 光谱分辨率。精确的线性空气轴承扫描器和 PEAK 质量的光学器件确保了极高的稳定性和灵敏度。

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VERTEX 80/80v 图1

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乙炔等离子体放电环境与氢化非晶碳膜光学及电学特性的相关性
光学发射丁二炔离子射频电容耦合等离子体氢化非晶碳傅里叶变换红外光谱拉曼光谱

采用常规等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术，通过乙炔（C2H2）等离子体在玻璃基板上沉积了聚合物及类石墨氢化非晶碳（a-C:H）薄膜。使用工作频率为13.56 MHz的射频容性耦合等离子体（RF CCP）源产生放电。光学发射光谱（OES）结果显示，在506 nm波长处存在强烈的二乙炔离子C4H2+光学发射。能量色散X射线（EDS）测量表明，随着功率增加，沉积薄膜中的碳含量升高。拉曼与红外光谱结果表明：低偏压340 V下沉积的薄膜属于高sp3杂化比例、高含氢量的聚合物型a-C:H；而高偏压877 V下沉积的薄膜则属于低sp3杂化比例、低含氢量的类石墨型a-C:H。通过结合Fano模型表达式与洛伦兹函数对拉曼和红外光谱的高不对称振动模式进行拟合，获得了定量分析数据。本研究表明，C4H2+离子发射强度与沉积薄膜特性之间存在关联。
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通过金属辅助的层级纳米-微米纹理化工艺制备的超疏水黑硅表面的卡西米尔-利夫希茨量子态
金属辅助蚀刻分级纳米-微米结构银纳米点沉积超疏水纳米表面

我们通过在微金字塔形硅表面进行层级纳米纹理化处理，制备出类似荷叶的超疏水硅纳米表面。该工艺采用基于银纳米颗粒沉积的金属辅助化学蚀刻法实现。这种层级微纳结构展现出约134°~150°接触角的超疏水特性，同时通过光子隧穿效应呈现黑硅的强光吸收特征。实验观察到波长范围在414.7~440nm和509~516.2nm区间内存在宽谱与锐利峰共存的表面光致发光现象。纳米表面的场致隧穿电流证实了量子表面态的形成。根据真空中光子卡西米尔-利夫希茨量子态分析表明，水滴的超疏水行为与纳米表面密切相关，且纳米多孔腔体可吸收太赫兹能量。该硅纳米表面在800~900cm?1光谱范围（对应99.2~111.6meV能量区间及24~27THz频率）表现出宽带吸收特性。
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实验方案推荐

AI分析生成

材料科学与工程实验方案
1. 实验设计与方法选择：采用自制13.56 MHz非对称射频容性耦合等离子体源，以纯乙炔（C2H2）等离子体沉积a-C:H薄膜。在40 mTorr气压下，通过调节功率（100-600 W）进行沉积，旨在关联等离子体电学与光学测量参数与薄膜特性，利用等离子体串联谐振（PSR）效应增强电离并控制薄膜从聚合态向石墨化a-C:H的转变过程。 2. 样品选择与数据来源：使用玻璃基底沉积薄膜。通过光学发射光谱（OES）表征等离子体组分，采用扫描电镜（SEM）、能谱仪（EDS）、拉曼光谱、傅里叶变换红外光谱（FTIR）及紫外-可见分光光度计对薄膜进行分析。 3. 实验设备与材料清单：自制射频容性耦合等离子体源（13.56 MHz，1 kW）、匹配网络（π型结构，含可调空气间隙电容与空气可调线圈）、电流测量的微分探头、Ocean Optics USB4000光谱仪（用于OES）、荷兰飞利浦Quanta EFI 250扫描电镜（配备EDS）、德国布鲁克Senterra拉曼光谱仪（532 nm激光）、德国布鲁克光学VERTEX 70/70V FTIR光谱仪、日本Jasco V-630紫外-可见分光光度计。实验材料包括乙炔气体、玻璃基底及冷却水。 4. 实验流程与操作步骤：抽真空后注入C2H2气体，在100-600 W功率范围和40 mTorr气压下沉积薄膜。在基底表面附近进行OES检测，测量电流波形并通过快速傅里叶变换（FFT）研究PSR效应。沉积后通过SEM、EDS、拉曼、FTIR及紫外-可见吸收光谱对薄膜进行表征。 5. 数据分析方法：分析OES中C4H2+、CH、C2、Hα等粒子的强度；采用Breit-Wigner-Fano（BWF）和洛伦兹函数拟合拉曼光谱，提取G峰位置、ID/IG比值及sp3杂化含量；解析FTIR光谱中的CH与C=C振动特征；通过EDS数据量化碳含量；根据吸收光谱估算光学带隙。
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纳米材料与技术实验方案
1. 实验设计与方法选择：本研究采用银纳米颗粒辅助的金属化学刻蚀工艺制备具有层级纳米-微米结构的硅表面。该工艺包括银薄膜沉积、退火形成纳米点以及使用HF和H2O2溶液进行化学刻蚀。理论模型涵盖真空中的光子模式量子力学及表面相互作用的Casimir-Lifshitz理论。 2. 样品选择与数据来源：使用p型硼掺杂单晶平直硅(100)晶圆（6平方英寸，156×156 mm2，电阻率0.5～3 Ω-cm，厚度180±5 μm）。数据来源于结构、光学和电学表征。 3. 实验设备与材料清单：设备包括场发射扫描电镜(FE-SEM)、光致发光(PL)和反射率(PR)分析仪、扫描隧道显微镜(STM)、傅里叶变换红外光谱仪(VERTEX 80v，布鲁克光学)、原子力显微镜(AFSEM?，Nanosurf)、电子束蒸发器、快速热退火系统。材料包括KOH、异丙醇(IPA)、HF、H2O2、HNO3、银薄膜、去离子水(DI water)。 4. 实验流程与操作步骤：包括超声预清洗、锯痕去除、KOH:IPA溶液微结构化、HF氧化层刻蚀、POCl3扩散形成pn结、银沉积与退火、HF-H2O2刻蚀纳米结构化、HNO3去除残余银，以及通过FE-SEM、PL、PR、STM、AFM和FTIR进行表征。 5. 数据分析方法：采用模拟（如COMSOL电场分析）、量子态和接触角的理论计算，以及对PR、PL和FTIR测量结果的光谱分析。
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厂家介绍

布鲁克光谱仪器公司（Bruker Optics）隶属于布鲁克公司，是世界领先的傅立叶变换红外、近红外和拉曼光谱仪制造商和全球供应商之一。布鲁克公司于 1974 年进入傅立叶变换红外光谱领域。早期的仪器凭借可抽真空光学器件、高分辨率和自动量程转换功能，为傅立叶变换红外光谱研究领域树立了新的标准。从那时起，产品线不断扩大，仪器适用于分析和研究应用，具有卓越的性能特点。如今，布鲁克光学公司为各种市场提供完整的技术解决方案，涵盖了研发和工业生产过程中所有领域的广泛应用，以确保质量和过程的可靠性。布鲁克光学公司的研发和制造中心位于德国埃特林根，技术支持中心和销售办事处遍布欧洲、北美、南美、亚洲、印度、中东和非洲。

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