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ArCM-LHP 高强度深紫外发射源 紫外线系统
新品

ArCM-LHP 高强度深紫外发射源

分类: 紫外线系统

厂家: Resonance

产地: 美国

型号: ArCM-LHP

更新时间: 2024-08-23T09:22:09.000Z

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高功率 光刻 真空紫外 光电离 氩气 连续光源 质谱分析

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概述

Resonance Ltd的High Power Argon Vacuum Ultraviolet Continuum Source ArCM-LHP是一款适用于光电离、光刻和质谱分析的高强度深紫外发射源。这是一个可靠且免维护的高强度深紫外(VUV)发射源,适用于真空应用,如光电离、光刻和质谱分析。

参数

  • 气体填充 / Gas Fill : Argon
  • 峰值波长 / Peak Wavelengths : 116-140NM
  • 全光谱范围 / Full Spectral Range : 116.5-7000NM
  • VUV光强 / VUV Intensity : 1x1016-1x1017Photons/sec/sr
  • 输出角度范围 / Full Angle Output Cone : 30-65Degrees
  • 窗口材料 / Window Material : MgF2
  • 窗口清晰口径 / Clear Aperture Of Window : 0.4-1.8CM
  • 脉冲调制 / Pulse Modulation : to 1 kHz available as option
  • 认证 / Certification : NIST Traceable Calibration of Irradiance in Vacuum
  • 等离子体深度 / Plasma Depth Behind Face Of Front Flange : 2.0-4.0CM
  • 等离子体直径 / Plasma Diameter : 0.9-4CM
  • 等离子体长度 / Plasma Length : 3-10CM
  • 输入线频率 / Input Line Frequency : 50-65Hz
  • 安装法兰 / Mounting Flange : 6 inch Conflat is standard
  • 强度监控 / Intensity Monitor : available as an option
  • 热控制 / Thermal Control : na
  • 系统组件 / System : Complete system includes power supply
  • 系统组件 / System : EMI shielded enclosure
  • 系统组件 / System : Vacuum flange and NIST Traceable calibration

应用

1. 光电离 2. 光刻 3. 质谱分析

特征

1. 适用于6英寸CF法兰或Acton/Mcpherson法兰,方便连接到UHV系统 2. VUV通量大于100毫瓦 3. 可选配1 kHz脉冲调制 4. 提供NIST可追溯的真空辐照度校准 5. 内置风扇强制空气冷却

详述

1. 适用于6英寸CF法兰或Acton/Mcpherson法兰,方便连接到UHV系统 2. VUV通量大于100毫瓦 3. 可选配1 kHz脉冲调制 4. 提供NIST可追溯的真空辐照度校准 5. 内置风扇强制空气冷却

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厂家介绍

Resonance有限公司提供全系列的极紫外(EUV)、真空紫外(VUV)、紫外(UV)、可见光(Vis)和红外(IR)组件和系统,专注于定制解决方案,并以现成产品的价格提供服务。凭借在光电技术领域超过35年的经验和高技能多样化的团队,我们能够为最苛刻的需求提供高水平和创新的解决方案。我们的产品广泛应用于全球各类项目,用于测试、测量和研究,深受学术界、航空航天、私人及企业机构的信赖。

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