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《AIP会议录》[作者:SILICONPV 2018第八届晶体硅光伏国际会议——瑞士洛桑(2018年3月19-21日)] - 快速扩散杂质原子探针断层扫描及多晶硅吸杂效应研究

DOI:10.1063/1.5049338 出版年份:2018 更新时间:2025-11-21 11:20:48
摘要: 本文展示了一种针对多晶硅中单个缺陷(如晶界)进行多尺度表征的方法。分析技术涵盖从宏观尺度的平均体寿命表征,到通过光致发光解析空间复合,最终采用透射菊池衍射和原子探针断层扫描对晶界的晶体学特征及杂质分布进行纳米级分析。该方法可用于表征缺陷及其对吸杂、氢钝化等工艺的响应。本文以"红区高性能多晶硅锯切损伤吸杂"为测试案例:在铸态和吸杂样品中,均观察到铜与铬富集于具有复合活性的随机取向晶界;吸杂后铜富集量减少,而扩散较慢的铬含量增加,可能表明存在内吸杂现象;在无复合活性的Σ3晶界处,吸杂前仅检测到氧元素,未发现过渡金属。
作者: David Tweddle,Eleanor C. Shaw,James O. Douglas,Ruy S. Bonilla,Michael P. Moody,Phillip Hamer,Peter R. Wilshaw
机构: University of Oxford, Department of Materials
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研究概述 实验方案 设备清单

研究吸杂对多晶硅中快速扩散杂质的影响及其对太阳能电池电学特性的作用。

该研究成功展示了一种用于分析多晶硅晶界的多尺度表征方法,揭示了SDG在降低晶界铜含量但无法减少铬方面的有效性。Σ3晶界显示出最低的杂质偏聚现象,与其较低复合活性相关。

主要限制在于样品制备和分析过程耗时较长,这制约了对大量晶界区域或多个样品进行分析以获得统计确定性的能力。

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