研究目的
研究脉冲激光蚀刻对半透明硅片的影响,以增强双面太阳能电池的近红外辐射吸收。
研究成果
研究表明,通过脉冲激光蚀刻实现的三维纹理化可增强硅晶圆对近红外的吸收,其中沟槽图案因内部散射效应表现出更高的吸收率。通孔图案则展现出更强的透光性,适用于部分透明的双面太阳能电池。未来工作将探索这些纹理化晶圆在太阳能电池中的应用,以评估其性能提升效果。
研究不足
该研究聚焦于特定的激光功率设置和蚀刻时间,可能未涵盖加工条件的所有潜在变化。这些纹理化晶圆在实际双面太阳能电池中的应用尚未经过测试,其在实际应用中的性能尚不明确。
1:实验设计与方法选择:
本研究通过脉冲激光作用、热氧化及湿法化学刻蚀在硅片上构建三维纹理结构。实验设置了两种方案:以氢氧化钾为刻蚀液、热氧化层为掩模的激光后化学刻蚀,以及激光后硅表面热氧化处理。
2:样品选择与数据来源:
起始硅片为p型<100>单晶硅,厚度约200微米,方块电阻率范围0.5-3 Ω·cm。
3:5-3 Ω·cm。
实验设备与材料清单:
3. 实验设备与材料清单:设备包含半导体激光划片系统(YMS-50D)、日立场发射扫描电镜(FESEM)及福禄克Ti-32红外热像仪;材料包括氢氧化钾(KOH)、氢氧化钠(NaOH)及去离子水。
4:实验流程与操作步骤:
工艺流程包含锯痕损伤去除、KOH溶液纹理化处理、不同功率脉冲激光刻蚀,以及通过扫描电镜、红外透射测量和热成像进行表征分析。
5:数据分析方法:
通过对比光学吸收率、表面形貌特征及温度响应数据,评估不同纹理化方法的效果。
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