研究目的
研究简化版原位电子全息术方法在证明多晶HfO2层中异质性方面的能力。
研究成果
从简化同轴全息法获得的相位图可作为一种简单工具，用于揭示复杂微观结构中的局部非均匀性。但这些缺陷需通过先进的透射电镜技术进一步研究才能确定。
研究不足
相位图具有有限的空间分辨率，通常在100纳米离焦时为1纳米。反演过程会在q=0处产生奇点，需要特定的滤波技术来处理。
2016年欧洲显微镜学大会论文集 || 采用简化同轴全息法作为定性工具检测HfO2层中的局部非均匀性
DOI：10.1002/9783527808465.emc2016.5322
出版年份：2016
更新时间：2025-09-11 14:15:04
摘要：
高k氧化物中的氧空位预计会对高k金属栅极MOS晶体管等器件产生不利影响[1]，但对RRAM却有益[2]。在此背景下，能够表征超?。?纳米级）薄膜缺陷的技术揭示了晶粒纳米结构对电子结构的影响[4]。当电子波穿过样品时，会经历与原子产生的局部内电势相关的相移?；袢≌庵窒嘁频牟慰技际跏抢胫岬缱尤⑹?。然而由于该技术较为精细，基于焦距序列采集的在线全息术可能具有研究价值。在线全息术的优势在于易于在常规透射电镜研究中实施，并能提供大范围（可达数微米）的相位图像。本研究旨在检验简化版在线电子全息术在揭示多晶HfO2层异质性方面的能力。
作者：
Mathias Alemany，Patricia Donnadieu，Amal Chabli，Edgar Rauch，Ben Mayall，Nicolas Bernier，Mickael Gros-Jean，Marie-France Barthe
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