研究目的
利用飞秒激光脉冲和等离激元极化激元激发，以纳米级分辨率研究磁化的层选择性全光开关。
研究成果
该研究成功展示了利用飞秒激光脉冲和等离子体极化激元激发，在多层异质结构中实现磁化的层选择性全光开关。该方法通过实现对多个磁层的独立寻址，为显著提高光磁记录的存储密度提供了途径。
研究不足
该研究仅限于双层结构，虽然该方法理论上可扩展至更多层，但实际实施需要对介电层和光学参数进行精心设计。表面等离子体激元（SPP）激发所需的耦合棱镜也可能对集成到紧凑型设备中构成挑战。
1：实验设计与方法选择：
本研究设计了一种多层异质结构以促进表面等离激元极化子（SPPs）的激发，实现层选择性磁化翻转。采用理论模型预测各层的吸收特性和场分布。
2：样品选择与数据来源：
制备了钆铁钴（GdFeCo）多层异质结构，通过调节钆元素特定浓度使各层具有不同的磁化补偿温度。
3：实验设备与材料清单：
实验装置包含产生飞秒脉冲的钛宝石激光系统、用于检测磁态的磁光显微镜，以及控制偏振和光束整形的各类光学元件。
4：实验流程与操作规范：
通过不同偏振方向和入射角度的单飞秒激光脉冲辐照异质结构，随后采用磁光显微技术对各层磁态进行成像。
5：数据分析方法：
通过分析磁光图像确定各层磁态，并计算吸收特性和场分布以关联实验观测结果。
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