研究目的
研究脉冲激光沉积法制备的Pr掺杂(Bi0.5Na0.5)TiO3-BaTiO3薄膜的铁电与光致发光特性。
研究成果
掺杂镨的(Bi0.5Na0.5)TiO3-BaTiO3薄膜展现出增强的铁电极化和优异的光致发光性能，使其成为多功能MEMS执行器和光学器件应用中极具前景的材料。
研究不足
该研究受限于所用XRD仪器的性能，无法确定薄膜的外延特性。此外，薄膜的极化性能逊色于陶瓷材料，这可能是由于高温结晶的块体材料具有更大的畴尺寸所致。
1：实验设计与方法选择：
本研究采用脉冲激光沉积（PLD）法，在SrRuO3电极的Pb(Mg1/3Nb2/3)O3–PbTiO3单晶基板上制备了Pr掺杂(Bi0.5Na0.5)TiO3–BaTiO3薄膜，并研究了基板温度、氧压和沉积时间对薄膜性能的影响。
2：5Na5)TiO3–BaTiO3薄膜，并研究了基板温度、氧压和沉积时间对薄膜性能的影响。 样品选择与数据来源：
2. 样品选择与数据来源：样品制备采用掺杂0.5 mol% Pr的0.93(Bi0.5Na0.5)TiO3–0.07BaTiO3陶瓷靶材，经1200°C烧结2小时而成。
3：5 mol% Pr的93(Bi5Na5)TiO3–07BaTiO3陶瓷靶材，经1200°C烧结2小时而成。 实验设备与材料清单：
3. 实验设备与材料清单：所用设备包括X射线衍射仪（XRD，D8 Focus，德国布鲁克）、场发射扫描电子显微镜（FESEM，S-4800，日本日立）、铁电分析仪（TF2000，德国爱克萨科特）、压电力显微镜（PFM，MFP-3D，美国阿舍姆研究公司）。
4：实验流程与操作步骤：
薄膜在780°C和30 Pa条件下沉积，随后在氧压下进行原位退火并自然冷却。
5：数据分析方法：
晶体结构采用XRD分析，表面与截面结构通过FESEM观察，铁电性能由铁电分析仪测定，畴结构通过PFM表征。
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获取完整内容-
Field emission scanning electron microscopy
S-4800
Hitachi
Characterizing the surface and cross-sectional structure of the thin film
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X-ray diffraction
D8 Focus
Bruker
Analyzing the crystallographic structure of the thin film
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Ferroelectric analyzer
TF2000
Aixacct
Measuring the ferroelectric properties of the thin film
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Piezoresponse force microscopy
MFP-3D
Asylum Research
Measuring the morphology, domain, and local piezoelectric loop of the thin film
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