研究目的
研究最佳生长和退火工艺,以设计出能在高频下工作并具有高输出太赫兹辐射功率的光电导天线(PCA)。
研究成果
将LT-GaAs在670°C-700°C下退火可确?;竦酶咂堤兆确淝考し⒌淖罴烟跫?。所制备的PCA样品能产生最高达1THz频谱范围的太赫兹辐射(共振峰位于0.1THz),与商用太赫兹天线ZOMEGA相比,其太赫兹功率、光电流效率及驱动直流击穿电压均显著提升。
研究不足
载流子迁移率或弛豫时间的降低会导致输出太赫兹辐射功率的下降,从而限制了光电导天线在高频太赫兹区域的工作能力。
1:实验设计与方法选择:
采用分子束外延(MBE)法在GaAs(100)衬底上合成LT-GaAs薄膜,通过调节砷压强、砷/镓束流比、生长/退火温度及退火时间进行调控。
2:样品选择与数据来源:
在GaAs(100)衬底上生长了厚度为1.2微米的LT-GaAs薄膜。
3:2微米的LT-GaAs薄膜。
实验设备与材料清单:
3. 实验设备与材料清单:使用As4束流的分子束外延法、Ni/AuGe/Ni/Au条形电极、抗反射涂层(100纳米单层SiN34)。
4:实验步骤与操作流程:
基于飞秒钛宝石激光的光学系统测量了0.1-3.5太赫兹范围内的积分光谱。
5:1-5太赫兹范围内的积分光谱。
数据分析方法:
5. 数据分析方法:采用太赫兹时域光谱技术分析光电导天线输出太赫兹辐射的频谱特性。
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