研究目的
研究石墨烯的选择性飞秒激光烧蚀以实现其微图案化,重点关注激光能量密度和环境条件对烧蚀及功能化过程的影响。
研究成果
飞秒激光烧蚀是一种在单层石墨烯中直接微图案化的有前景方法,它结合了机械基底介导的烧蚀与光化学及光热过程。在同一实验装置中可实现石墨烯的选择性功能化与烧蚀,为电子器件和传感器领域提供了潜在应用。
研究不足
该研究的局限性在于,石墨烯选择性烧蚀的能流密度窗口较窄——既受限于底层基底的损伤,也受限于较低能流密度下不规则的烧蚀现象。图案化的分辨率在几微米范围内,且烧蚀边缘氧化效应尚需进一步研究。
1:实验设计与方法选择:
本研究采用钛宝石放大激光器对SiO2/Si基底上的单层石墨烯进行飞秒激光烧蚀。激光参数设置为波长800纳米、脉冲持续时间40飞秒、重复频率167赫兹。通过改变脉冲能量并测量烧蚀斑点直径来确定烧蚀阈值。
2:样品选择与数据来源:
使用商业采购的通过化学气相沉积在铜催化剂上生长并转移至SiO2/Si基底的单层石墨烯。样品在激光处理前未进行预处理。
3:实验设备与材料清单:
钛宝石激光器(Spitfire Ace,Newport Spectra-Physics)、高精度平移台(ANT 130-XY,Aerotech)、光学显微镜(Eclipse LV100,Nikon)、扫描电子显微镜(EVO MA10,Zeiss)、原子力显微镜(Nanoscope 5,Bruker)、拉曼显微镜(inVia,Renishaw)。
4:实验步骤与操作流程:
对石墨烯样品进行不同脉冲能量的单次照射实验。实验在常压空气和氩气流环境下进行。通过光学显微镜、扫描电镜、原子力显微镜和拉曼光谱分析烧蚀区域。
5:数据分析方法:
基于高斯光束的空间能量密度分布计算烧蚀阈值。评估辐照区域的形貌,并通过拉曼光谱验证石墨烯的完全去除。
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Atomic force microscope
Nanoscope 5
Bruker
Evaluation of topographical features of single shots.
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Ti:sapphire laser
Spitfire Ace
Newport Spectra-Physics
Used for femtosecond laser ablation of graphene monolayers.
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High precision translation stage
ANT 130-XY
Aerotech
Positioning the sample normal to the incident laser beam.
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Scanning electron microscope
EVO MA10
Zeiss
Analysis of ablated single shots, lines, and patterns.
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Optical microscope
Eclipse LV100
Nikon
Analysis of ablated single shots, lines, and patterns.
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Raman microscope
inVia
Renishaw
Verification of complete removal of graphene by fs-laser irradiation.
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