研究目的
研究利用银辅助无电化学蚀刻法在微纹理硅衬底上制备硅纳米线，以降低太阳能加权反射率，为潜在的太阳能电池应用提供支持。
研究成果
在P型（100）晶向抛光的硅片上成功制备的二元纹理结构，可在宽光谱范围内将反射率降至<3%。氢氟酸浓度会显著影响纳米线的形貌及刻蚀动力学过程，从而通过低成本、可扩展的工艺制备出具有目标取向和光学反射率的纳米线。
研究不足
该研究仅限于氢氟酸浓度对所制备结构形貌及光学特性的影响。虽然注意到通过降低反射率提高转换效率的潜力，但该研究并未充分探究其对转换效率的影响。
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通过银辅助化学蚀刻制备的低反射率分级纹理硅，有望应用于太阳能电池
DOI：10.1016/j.matpr.2018.11.058
期刊：Materials Today: Proceedings
出版年份：2018
更新时间：2025-09-12 10:27:22
摘要：
本研究报道了在微纹理硅基底上制备硅纳米线的方法。采用银辅助无电化学蚀刻工艺制备纳米线，并通过扫描电子显微镜研究了氢氟酸浓度对形成动力学的影响。这种分级二元结构能将宽光谱范围（300-1100 nm）的太阳加权反射率（SWR）从抛光硅的无涂层状态（38%）降至<3%。实现如此低的反射率仅需<1 μm长度的纳米线。研究发现，在较低氢氟酸浓度下，纳米线优先沿<100>晶向生长；而随着浓度升高，在相同尺寸的微金字塔上同时发生<100>和非<100>（如<111>）晶向的蚀刻，最终形成三维微金字塔表面带有倾斜硅纳米线的二元结构。
作者：
Prashant Singh，Sanjay K. Srivastava，Vijay Prajapati，B. Sivaiah，C.M.S. Rauthan，P.K. Singh
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