1：实验设计与方法选择：

本实验旨在研究重复频率对N2纳秒激光加工硅微结构形貌的影响。激光参数为波长337nm、脉宽约3.5ns、单脉冲能量170μJ。实验在空气介质中进行，保持样品扫描速度恒定为0.005mm/s，重复频率从5Hz调节至20Hz。

2：5ns、单脉冲能量170μJ。实验在空气介质中进行，保持样品扫描速度恒定为005mm/s，重复频率从5Hz调节至20Hz。 样品选择与数据来源：

2. 样品选择与数据来源：实验采用单面抛光的p型(100)硅晶圆（1×1cm2尺寸）切割制样。

3：实验设备与材料清单：

N2纳秒激光器（型号NL 100，斯坦福研究系统公司）、焦距100mm柱面透镜、ZAICUS品牌USB数码显微镜内窥镜相机、日本电子场发射扫描电子显微镜（FESEM）、Zaber公司电动X-Y载物台（型号X-XY-LSM025A-KX13A-SQ3）。

4：实验流程与操作规范：

通过柱面透镜将激光束聚焦于硅样品表面，样品安装于电动X-Y载物台进行光栅扫描加工。采用USB数码显微镜内窥镜相机和FESEM进行形貌表征。

5：数据分析方法：

使用ImageJ软件对USB数码显微镜图像及FESEM图像进行形貌变化分析。