研究目的
研究采用脉冲激光沉积技术制备的不同厚度的酞菁铜(CuPc)薄膜的非线性光学特性。
研究成果
该研究成功展示了酞菁铜（CuPc）薄膜的非线性光学特性，包括负非线性折射率和正非线性吸收系数，表明其在光限幅器件中具有潜在应用价值。研究证实了酞菁铜薄膜在632.8纳米波长下作为光限幅材料的适用性。
研究不足
该研究仅限于在单一波长（632.8纳米）下探究非线性光学特性，并未在指定参数范围之外考察激光波长或强度变化的影响。
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研究采用脉冲激光沉积技术制备的不同厚度有机半导体（CuPc）的非线性特性
DOI：10.4028/www.scientific.net/nhc.27.11
期刊：Nano Hybrids and Composites
出版年份：2019
更新时间：2025-09-16 10:30:52
摘要：
通过脉冲激光沉积技术分别研究了铜酞菁（CuPc）薄膜（厚度为150、300和450纳米）的光学吸收光谱、光致发光特性及非线性光学性质。吸收光谱显示存在两个特征谱带：位于紫外区约330纳米的B带和可见光区约650纳米的Q带。针对不同厚度的沉积样品测定了相应的光致发光光谱?；诒蘸嫌肟趴拙禯扫描数据，采用光束腰斑（24.2微米）、波长（632.8纳米）及瑞利长度（2.9毫米）的氦氖激光器，分别计算出非线性吸收系数与非线性折射率。通过闭合孔径与开放孔径数据比值精确测定了非线性折射率。研究最终证实该沉积薄膜在632.8纳米波长下具有光学限幅适用性。
作者：
Mohammed T. Hussein，Reem R. Mohammed
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