研究目的
探索和开发用于获得等离子体HfN纳米结构的光刻制备方法,并利用阴极发光(CL)光谱技术对其局域表面等离子体共振(LSPRs)进行空间映射。
研究成果
该研究成功展示了利用聚焦离子束(FIB)铣削和电子束光刻(EBL)制备等离子体氮化铪(HfN)纳米颗粒的方法。这些纳米颗粒呈现出明显的表面等离子体共振现象,为其在需要材料强健性的应用中铺平了道路。FIB铣削与EBL制备结构之间等离子体模式的相似性表明这两种制备方法具有广泛的适用性。
研究不足
由于HfN材料具有高熔点和化学惰性,该研究在HfN纳米颗粒的光刻制备过程中面临挑战。由于硅衬底的背景阴极射线发光,阴极射线发光光谱仪仅能检测可见光范围内的信号。
1:实验设计与方法选择:
本研究采用聚焦离子束(FIB)铣削和电子束光刻(EBL)两种方法制备HfN纳米颗粒,并通过阴极荧光(CL)光谱表征其等离子体特性。
2:样品选择与数据来源:
通过反应溅射镀膜法制备高质量HfN薄膜,随后利用FIB铣削和EBL技术制备纳米颗粒。
3:实验设备与材料清单:
设备包括用于FIB铣削的FEI Helios Nanolab 600扫描电镜、用于EBL的Raith e-LINE系统以及用于CL测量的Thermo Fisher 650 Quanta扫描电镜。材料包括HfN薄膜和多种光刻胶。
4:实验流程与操作步骤:
流程包括沉积HfN薄膜、采用FIB铣削纳米颗粒、通过EBL制备纳米颗粒阵列,并利用CL光谱表征等离子体特性。
5:数据分析方法:
采用CL光谱分析纳米颗粒的光学特性,并将结果与有限时域差分(FDTD)模拟进行对比。
独家科研数据包,助您复现前沿成果,加速创新突破
获取完整内容