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定制TiO?保护层实现高效稳定的微穹顶结构p-GaAs光电化学阴极

DOI:10.1002/aenm.201902985 期刊:Advanced Energy Materials 出版年份:2020 更新时间:2025-09-19 17:13:59
摘要: III-V族化合物半导体是光电解(PEC)应用中极具前景的一类材料。本研究采用金属辅助湿法刻蚀技术在p型GaAs表面制备出大面积图案化微穹顶结构,并通过原子层沉积法获得厚度与结晶度可控的TiO??;げ?。基于PEC光阴极设计,在中性pH电解液中于-0.8V(vs Ag/AgCl)电位下实现了-5 mA cm?2的光电流输出。通过控温沉积获得的特定结晶度TiO?涂层相比非晶涂层展现出更优异的稳定性,使器件能稳定运行长达60小时。GaAs与TiO?之间有利的能带排列促进了电荷分离效率提升,从而同步提高了太阳能转化效率。该方法为进一步开发高效耐用的III-V族化合物及其他太阳能燃料制备用光阴极材料提供了可行方案。
作者: Shiyao Cao,Zhuo Kang,Yanhao Yu,Junli Du,Lazarus German,Jun Li,Xiaoqin Yan,Xudong Wang,Yue Zhang
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研究概述 实验方案 设备清单

研究原子层沉积TiO2保护层在微结构p-GaAs光阴极上应用于光电化学水分解以提高效率和稳定性。

研究表明,具有定制TiO2?;げ愕奈Ⅰ范ソ峁笹aAs光阴极在光电化学应用中可实现增强的光吸收和卓越的稳定性。优化的TiO2涂层显著提高了电荷转移效率并防止氧化,为III-V族化合物在太阳能燃料制备中的实际应用提供了可行路径。

该研究聚焦于中性pH电解质中TiO2包覆p-GaAs光阴极的稳定性和效率。未探究超过60小时的长期稳定性及其他pH条件下的性能表现。

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