研究目的
研究采用简单压印技术制备的单壁碳纳米管（SWCNTs）与传统丝网印刷方法相比增强的场电子发射特性。
研究成果
与丝网印刷的碳纳米管相比，印迹单壁碳纳米管阴极展现出显著提升的场发射性能，包括更低的开启场和阈值场以及更高的场增强因子。该方法提供了一种简单、低成本且高效的制备高性能场发射阴极的途径，在各类电子设备中具有应用潜力。
研究不足
该研究聚焦于比较压印与丝网印刷单壁碳纳米管，但未探索其他可能进一步提升场发射性能的潜在制备方法或材料。
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压印技术制备的单壁碳纳米管增强场电子发射
DOI：10.1016/j.jallcom.2019.152669
期刊：Journal of Alloys and Compounds
出版年份：2019
更新时间：2025-09-19 17:13:59
摘要：
本工作通过银缓冲层衬底压印法制备了单壁碳纳米管（SWCNTs）场发射电子源。研究发现，与启亮场强1 V/μm、阈值场强2 V/μm的丝网印刷SWCNTs发射体相比，压印法制备的SWCNTs发射体场发射性能显著提升——启亮场强降至0.62 V/μm，阈值场强降至1.04 V/μm。这种性能提升源于直接压印工艺使碳纳米管保持洁净表面且衬底上发射体密度更高。场发射启亮场强的降低归因于发射体表面无杂质包裹，以及SWCNTs的高长径比（导致15800的强场增强因子）。经多次重复实验验证，压印阴极的发射性能几乎保持不变。这种简便低成本的工艺可高效制备高性能场发射阴极，在多种电子器件中展现出应用潜力。
作者：
Ruirui Jiang，Baoqing Zeng，Jianlong Liu，Xuan Chai，Tao Chen，Zhe Wu，Xianfeng Zhang，Kaiqiang Yang
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