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通过氦-氮气体混合物脉冲激光烧蚀制备的硅基纳米晶体的光致发光调控

DOI:10.3390/molecules25030440 期刊:Molecules 出版年份:2020 更新时间:2025-09-19 17:13:59
摘要: 采用氦气(He)-氮气(N?)混合气体(压力维持在0.5-5托的减压环境)中硅靶材脉冲激光烧蚀法,我们制备出具有强光致发光(PL)特性的基底支撑硅(Si)纳米晶薄膜,其发光特性与He/N?比例相关。研究表明:纯He气氛烧蚀时,Si纳米晶呈现分别位于"红-近红外"(峰值760 nm)和"绿色"(中心550 nm)光谱区的PL谱带,这分别归因于小尺寸Si纳米晶的量子限域激子态及非晶硅亚氧化物(a-SiO?)包覆层的局域电子态;而引入N?后会产生中心波长580 nm的强"绿黄色"PL谱带,该谱带源自Si纳米晶非晶氮氧化物(a-SiN?O?)包覆层的辐射复合。具有SiO?和a-SiN?O?包覆层的Si纳米晶PL瞬态过程显示微秒及亚微秒量级的非指数衰减,其衰减速率取决于混合气体中的氮含量。经超声研磨分散于水后,这些Si纳米晶可作为高效无毒生物成像标记物,而观察到的光谱调控效应使得该标记物的PL发射能适配特定生物成像需求。
作者: Anastasiya A. Fronya,Sergey V. Antonenko,Alexander Yu. Kharin,Andrei V. Muratov,Yury A. Aleschenko,Sergey I. Derzhavin,Nikita V. Karpov,Yaroslava I. Dombrovska,Alexander A. Garmash,Nikolay I. Kargin,Sergey M. Klimentov,Victor Yu. Timoshenko,Andrei V. Kabashin
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研究概述 实验方案 设备清单

研究氦-氮气体混合物中脉冲激光烧蚀制备的硅纳米晶体的光致发光(PL)发射特性,用于生物成像应用。

在硅靶材脉冲激光烧蚀过程中向氦气氛围中添加氮气,会显著改变所制备硅基纳米结构薄膜的光致发光特性,使其在黄绿光谱范围内产生强度提升五倍的光致发光带。这种对光致发光特性的调控能力,在生物成像应用领域展现出极具前景的应用潜力。

本研究仅限于表征在氦-氮混合气体中通过脉冲激光烧蚀制备的硅纳米晶体的光致发光特性。本研究提出了潜在的生物成像应用,但未进行实验验证。

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