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脉冲激光沉积法在蓝宝石/Pt衬底上生长的LuFeO3外延层结构质量

DOI:10.3390/ma13010061 期刊:Materials 出版年份:2019 更新时间:2025-09-19 17:13:59
摘要: 通过原位高分辨率X射线衍射(倒易空间图谱)研究了在有无铂Pt中间层的蓝宝石衬底上脉冲激光沉积生长的LuFeO3外延层的结构质量。我们确定了生长过程中LuFeO3厚度变化以及铂中间层厚度(最高达40纳米)不同时的结构参数,如镶嵌块尺寸和取向差。借助时间分辨X射线反射率曲线拟合和原位X射线衍射测量,我们证明LuFeO3生长速率以及面外晶格参数几乎不受Pt中间层厚度影响,而面内LuFeO3晶格参数减小。我们发现,尽管不同厚度的Pt中间层形貌各异,LuFeO3仍以连续镶嵌层形式生长,且镶嵌块取向差随Pt厚度增加而减小。X射线衍射结果结合非原位扫描电子显微镜和高分辨率透射电子显微镜表明,Pt中间层通过减小LuFeO3晶格与下方材料的失配度,显著改善了LuFeO3的结构。
作者: Sondes Bauer,Tilo Baumbach,Václav Holy,Adriana Rodrigues,Luká? Horák,Xiaowei Jin,Reinhard Schneider
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研究通过脉冲激光沉积法在蓝宝石衬底(有无铂Pt中间层)上生长的LuFeO3外延层的结构质量,重点关注生长过程中LuFeO3厚度变化以及铂中间层厚度(最高达40 nm)不同时,结构参数(如镶嵌块尺寸和取向差)的变化情况。

随着Pt中间层厚度的增加,LuFeO3层的结构质量得到改善。这一发现表明可以在底部Pt电极上沉积多铁性LuFeO3材料,为制备功能性多铁性结构开辟了道路。

根据XRR数据确定的均方根粗糙度存在较大的统计误差,导致其数值不具备决定性。由于LFO(108)衍射强度较弱,精确测定面内晶格参数具有挑战性。

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