研究目的
研究层状非化学计量比V7O16薄膜中独特原子层结构的调控及其氧依赖性多价态特性，应用于能量转换、存储、化学催化、传感器及光电器件领域。
研究成果
该研究成功证明了利用原子层沉积（ALD）和退火后处理技术，可实现对层状非化学计量比V7O16薄膜中氧依赖型多价态与晶相的调控。这些薄膜在78至475K温度范围内未出现电子结构与晶体结构的突变，显示出其在电化学器件及层状氧化物领域的应用潜力。
研究不足
该研究聚焦于控制氧含量和薄膜厚度以实现V7O16的形成，但未充分探究退火温度和时间等其他参数的影响?？掌肪持械谋砻嫜趸в赡艿贾耉5+含量高于预期。
1：实验设计与方法选择：
采用原子层沉积（ALD）法制备V7O16薄膜，随后进行退火晶化处理。ALD过程以VO(OC3H7)3和去离子水作为前驱体。
2：样品选择与数据来源：
使用预清洗的硅和蓝宝石衬底沉积VOx薄膜。
3：实验设备与材料清单：
ALD反应腔、X射线衍射仪（布鲁克D8）、拉曼光谱仪（Nanofinder 30）、扫描电子显微镜（FEI Sirion200）、透射电子显微镜、X射线光电子能谱仪（K-Alpha，赛默飞世尔）、低温探针台（Lakeshore TTPX）以及Lambda 950分光光度计。
4：8）、拉曼光谱仪（Nanofinder 30）、扫描电子显微镜（FEI Sirion200）、透射电子显微镜、X射线光电子能谱仪（K-Alpha，赛默飞世尔）、低温探针台（Lakeshore TTPX）以及Lambda 950分光光度计。 实验流程与操作步骤：
4. 实验流程与操作步骤：依次进行衬底清洗、Al2O3缓冲层沉积、VOx薄膜生长，并在受控氧压下退火形成V7O16。
5：数据分析方法：
通过XRD、拉曼光谱、XPS、SEM、TEM以及电学与光学测量分析薄膜特性。
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X-ray diffractometer
Bruker D8
Bruker Corporation
Analyzing the crystal structure of V7O16
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Raman spectrometer
Nanofinder 30
TII Tokyo Instruments, Inc.
Conducting Raman mappings and measuring Raman spectra
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Scanning electron microscopy
FEI Sirion200
FEI
Investigating morphologies and crystalline structures of V7O16 thin films
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X-ray photoelectron spectrometer
K-Alpha
Thermo Scientific
Measuring XPS spectra
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Cryogenic probe station
Lakeshore TTPX
Lakeshore
Measuring resistance characteristics of V7O16 thin films
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Spectrophotometer
Lambda 950
PerkinElmer
Recording temperature-dependent transmission spectra
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