研究目的
分析采用分子束外延技术在GaAs衬底上生长的、基于弛豫AlyIn1?yAs应变缓冲层(MBLs)的InAs1?xSbx/AlyIn1?yAs量子阱(QWs)的光学特性,并评估其中红外发光二极管和激光二极管的应用潜力。
研究成果
研究表明,在GaAs衬底上生长的InAs1?xSbx/AlyIn1?yAs应变补偿量子阱为开发在3–4微米波段具有优良性能的LED或二极管激光器提供了可行途径。量子阱中的压应变通过降低带边态密度提高了辐射效率,使更多载流子可用于辐射复合。需进一步研究以量化损耗机制并设计适用于实际应用的优化结构。
研究不足
研究表明,要实现更长的发射波长需要更高的锑(Sb)组分含量,但这可能会降低电子限制效果。此外,非辐射复合机制(很可能是俄歇复合)的存在限制了该结构的整体辐射效率。
1:实验设计与方法选择:
本研究采用分子束外延(MBE)技术在GaAs衬底上生长InAs1?xSbx/AlyIn1?yAs量子阱(QWs),其中使用弛豫的AlyIn1?yAs匹配缓冲层(MBLs)。通过光致发光(PL)测量和基于八带k·p哈密顿量的理论计算分析光学特性。
2:样品选择与数据来源:
样品由五周期InAs1?xSbx/Al0.125In0.875As多量子阱层组成,锑组分含量最高达x=10%。通过双晶X射线衍射(DC-XRD)、原子力显微镜和透射电子显微镜(TEM)对结构进行表征。
3:125In875As多量子阱层组成,锑组分含量最高达x=10%。通过双晶X射线衍射(DC-XRD)、原子力显微镜和透射电子显微镜(TEM)对结构进行表征。
实验设备与材料清单:
3. 实验设备与材料清单:使用Veeco GENxplor MBE系统进行生长,配备As2和Sb2通量的阀门裂解源以及In和Al通量的热蒸发K胞。PL测量采用785 nm二极管泵浦固态激光器和布鲁克Vertex 70傅里叶变换中红外光谱仪。
4:实验流程与操作步骤:
各层结构在特定温度下生长,利用原位反射式高能电子衍射监测表面重构。PL测量在4至300 K温度范围内进行。
5:数据分析方法:
理论模型计算量子阱自发辐射(SE)光谱,采用Vurgaftman等人推荐的材料参数,并将计算结果与实测PL光谱对比以分析电子和光学特性。
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