研究目的
研究激光能量密度和离焦量对银薄膜上激光烧蚀沟槽宽度和深度的影响，以实现可控烧蚀与图案化。
研究成果
研究表明，激光能量密度和离焦量显著影响银薄膜上激光刻蚀沟槽的宽度和深度。实验实现了可控刻蚀与图案化，该方法在需要精确控制刻蚀的领域具有潜在应用价值。该发现为材料加工中激光刻蚀技术的进一步研究奠定了基础。
研究不足
该研究仅限于玻璃基板上的银薄膜，未涉及其他材料或基板。虽然研究了激光参数对烧蚀特性的影响，但未探讨该工艺在工业应用中的可扩展性。
1：实验设计与方法选择
研究采用射频磁控溅射技术在玻璃基底上沉积银膜，随后使用532纳米纳秒脉冲激光进行烧蚀。系统研究了激光能量密度和离焦量对烧蚀特性的影响。
2：样品选择与数据来源
使用商用钠钙浮法玻璃基底，沉积厚度为100纳米和600纳米的银膜。通过共聚焦激光扫描显微镜（CLSM）、场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）和能谱仪（EDX）分析烧蚀特性。
3：实验设备与材料清单
射频磁控溅射系统,532纳米纳秒脉冲激光器（Wedge532，Bright Solution Ltd.）,共聚焦激光扫描显微镜（VK-X260K，基恩士公司）,场发射扫描电子显微镜（JSM-7800F，日本电子株式会社）,能谱仪（E550，EDAX公司）,数字四探针测试仪（RST-9，广州四探针科技有限公司）
4：实验流程与操作步骤
在清洁的玻璃基底上沉积银膜，随后在不同能量密度和离焦量条件下进行激光烧蚀，分析烧蚀特性对沟槽宽度和深度的影响。
5：数据分析方法
采用CLSM分析表面形貌，FE-SEM观察表面微观结构，EDX检测化学成分变化，使用四探针测量图案的电学性能。
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获取完整内容-
Nanosecond pulsed laser
Wedge532
Bright Solution Ltd.
Ablation of Ag thin films
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Field emission scanning electron microscope
JSM-7800F
JEOL Ltd.
Observation of surface morphologies
-
RF magnetron sputtering system
Deposition of Ag thin films on glass substrates
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Confocal laser scanning microscope
VK-X260K
Keyence Corp.
Characterization of surface profiles and determination of widths and depths of laser-ablated grooves and patterns
-
Energy dispersive X-ray spectrometer
E550
EDAX Inc.
Analysis of chemical composition changes of the samples
-
Digital four-point probe instrument
RST-9
Guangzhou Four Probes Technology Co. Ltd.
Measurement of sheet resistance and resistivity
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