研究目的
研究基于TiO2的金属-半导体-金属紫外光电探测器制备及其在UVA监测中的性能表现。
研究成果
采用浸涂法制备的基于TiO2的MSM紫外光电探测器在UVA监测方面展现出良好前景,具有高光电响应度和快速响应时间。器件性能受沉积循环次数的影响。
研究不足
本研究仅限于二氧化钛薄膜的表征及其在紫外光电探测器中的应用。未对不同环境条件下的性能及长期稳定性进行广泛研究。
1:实验设计与方法选择
采用TTIP为前驱体,通过浸渍提拉法制备TiO2薄膜。退火处理以改善结晶度。
2:样品选择与数据来源
沉积前对玻璃基底进行清洗和处理。通过不同循环次数(6、7、8、9)沉积薄膜并进行表征。
3:实验设备与材料清单
布鲁克D2 phaser衍射仪、岛津UV-Vis-1800分光光度计、场发射扫描电镜(Mira3; TESCAN)、能谱仪(牛津仪器)、电化学分析仪(WonATech wbcs3000)。
4:实验流程与操作步骤
将基底浸入前驱体溶液,干燥后退火。涂覆银电极制备MSM型紫外探测器,测试不同条件下的紫外传感性能。
5:数据分析方法
通过XRD、FESEM、紫外-可见光谱和I-V特性分析结构、形貌、光学及紫外传感性能。
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Brucker D2 phaser diffractometer
D2 phaser
Brucker
Used to study structural properties of thin films.
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Shimandzu UV–Vis-1800 spectrophotometer
UV–Vis-1800
Shimandzu
Used for optical properties study of thin films.
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FESEM
Mira3
TESCAN
Used for morphological study of thin films.
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EDAX
Oxford Instruments
Used for compositional study.
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Electrochemical analyser
wbcs3000
WonATech
Used to study UV sensing properties of fabricated device.
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