研究目的
研究非晶态二硫化钼（MoSx）薄膜涂层在低温（?100 °C）氧化环境中滑动摩擦时的摩擦学性能。
研究成果
MoS3涂层在恶劣滑动摩擦条件下表现出最佳的减摩性能，具有最低的摩擦系数（0.08）和对偶件最小的磨损量。MoS2涂层展现出最优的耐磨性，但摩擦系数较高（0.16）且对偶件磨损更为显著。MoS4涂层的摩擦学性能较差。该研究强调了非晶态MoSx薄膜中局部原子堆积方式对其摩擦学性能的重要影响。
研究不足
该研究仅限于评估低温和氧化环境下的摩擦学性能。MoS4涂层在电子束辐照下的结构稳定性被指出是一个限制因素。
1：实验设计与方法选择：
通过在不同H2S气压下对Mo靶材进行激光烧蚀，采用反应脉冲激光沉积法(RPLD)制备出不同硫含量(x~2、3和4)的MoSx薄膜涂层。
2：3和4)的MoSx薄膜涂层。 样品选择与数据来源：
2. 样品选择与数据来源：选用抛光处理95Cr18不锈钢圆盘作为涂层基底。
3：实验设备与材料清单：
Nd/YAG激光器、朗缪尔等离子体探针、扫描电镜/能谱仪(Tescan LYRA 3)、卢瑟福背散射(RBS)、X射线衍射仪(Ultima IV，理学)、X射线光电子能谱仪(Theta Probe赛默飞世尔)、魔角旋转核磁共振(MRS)、透射电镜(JEM-2100，日本电子)、安东帕TRB3摩擦磨损试验机。
4：3)、卢瑟福背散射(RBS)、X射线衍射仪(Ultima IV，理学)、X射线光电子能谱仪(Theta Probe赛默飞世尔)、魔角旋转核磁共振(MRS)、透射电镜(JEM-2100，日本电子)、安东帕TRB3摩擦磨损试验机。 实验流程与操作步骤：
4. 实验流程与操作步骤：涂层在室温下通过8、16和29 Pa的H2S气压沉积制备，摩擦测试在-100°C空气-氩气混合气氛中进行。
5：16和29 Pa的H2S气压沉积制备，摩擦测试在-100°C空气-氩气混合气氛中进行。 数据分析方法：
5. 数据分析方法：利用SEM、EDS、RBS、XRD、XPS、MRS和TEM分析涂层结构与化学状态，基于摩擦系数和耐磨性评估摩擦学性能。
独家科研数据包，助您复现前沿成果，加速创新突破
获取完整内容-
XPS
Theta Probe
Thermo Fisher Scientific
Chemical states study
-
TEM
JEM-2100
JEOL
Structure study at the nanoscale level
-
Tribometer
TRB3
Anton Paar
Tribo-testing
-
XRD
Ultima IV
Rigaku
Crystal structure examination
-
Nd/YAG laser
Laser ablation of the Mo target
-
SEM/EDS
Tescan LYRA 3
Tescan
Surface morphologies and chemical compositions study
-
登录查看剩余4件设备及参数对照表
查看全部
