研究目的
提出一种无需掩模、超快速且低成本的微通道制备方法，利用微绘图仪直接书写光刻胶模具，分辨率可达10微米。
研究成果
所提出的方法用于微制造，具有超快速和低成本的特点，无需洁净室设施即可制造出窄至39.65微米的微通道。通过抑制振动可以提高该方法的分辨率。
研究不足
仅适用于粘度低于450 cPs的光刻胶。要求基底具有高表面润湿性。由于移液器的机械噪声，最小特征尺寸限制为10微米。
1：实验设计与方法选择：
该方法采用微绘图仪和玻璃移液管直接在PDMS基底上书写光刻胶。
2：样本选择与数据来源：
将PDMS与固化剂混合并浇铸到玻璃模具上制成PDMS基底。用丙酮稀释光刻胶以降低其粘度。
3：实验设备与材料清单：
微绘图仪、玻璃移液管、光刻胶、PDMS、丙酮、加热板。
4：实验步骤与操作流程：
通过毛细作用将光刻胶加载到移液管中，随后用于在PDMS上书写微结构。光刻胶在加热板上固化，再将第二层PDMS浇铸到模具上，固化后剥离以获得微结构。
5：数据分析方法：
光学测量微结构尺寸。
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ultrasonic microplotter
MICROPLOTTER DESKTOP
Sonoplot INC
Used for direct writing of photoresist on a PDMS substrate.
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glass pipette
Used to directly write microfeatures on a PDMS substrate.
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photoresist
AZ 3330 positive photoresist
Used as a mold for replication.
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PDMS
Used as a substrate for direct writing of photoresist and as a material for microchannel fabrication.
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hot-plate
Used to cure the photoresist and PDMS.
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