研究目的
通过研究钴锗化物在低氧压和低水压条件下的氧化行为，评估其作为甲烷蒸汽重整潜在催化剂的适用性。
研究成果
该研究描述了CoGe薄膜的体相和表面特性关键特征，这些特性与其作为甲烷重整催化剂的适用性相关。若催化剂处于高温氧化环境，可能存在CoGe随时间推移损失锗元素的风险；但若反应条件能使催化剂表面从沉积态还原，则该催化剂很可能保持稳定。
研究不足
该研究仅限于CoGe薄膜在低氧压和低水压条件下的氧化行为。反应条件下GeO的潜在脱附可能对CoGe催化剂的稳定性构成影响。
1：实验设计与方法选择：
本研究通过溅射沉积制备CoGe合金薄膜，并在高达1000°C的高真空退火后进行表征。采用X射线光电子能谱(XPS)研究非晶态和晶态CoGe合金表面在低压O?和H?O环境下的初始氧化行为。
2：样品选择与数据来源：
使用CoGe溅射靶材通过射频磁控溅射沉积钴锗薄膜，以带有100纳米热氧化层的硅(100)晶圆作为衬底。
3：实验设备与材料清单：
AJA溅射系统、Zemetrics ZeScope光学轮廓仪、Veeco di-Innova原子力显微镜(AFM)、Rigaku IV多功能衍射仪、Perkin-Elmer Phi 5600多技术XPS系统。
4：实验流程与操作步骤：
薄膜在Hiden程序升温脱附(TPD)工作站中进行退火处理，样品温度通过热电偶测量，采用XPS分析薄膜氧化过程。
5：数据分析方法：
使用CASA XPS软件配合Shirley背景对XPS谱图进行拟合，通过XRD数据分析确定薄膜的晶体结构。
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获取完整内容-
AJA sputter system
AJA International, Inc.
Used for sputter deposition of CoGe alloy films.
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Zemetrics ZeScope optical profilometer
Zemetrics
Used to measure the step height of the CoGe film.
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Veeco di-Innova atomic force microscope
Veeco
Used in tapping mode to monitor topographical and tapping phase data of the as-deposited and annealed films.
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Rigaku IV Multipurpose diffractometer
Rigaku
Used for X-ray diffraction (XRD) to analyze the crystallographic structure of the films.
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Perkin-Elmer Phi 5600 MultiTechnique system
Perkin-Elmer
Used for X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) to study the surface chemical composition and oxidation states.
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