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毫米波波段高介电常数薄膜复介电常数的无电极测量技术

DOI:10.2528/pierm16100505 期刊:Progress In Electromagnetics Research M 出版年份:2016 更新时间:2025-09-23 15:21:21
摘要: 描述了一种无电极测量高K值介电薄膜复介电常数的技术。该技术基于准光学法布里-珀罗谐振腔,并针对双层介质结构(衬底/K膜)进行了改进。本方法旨在为后续工艺流程前提供高K值薄膜参数的简易中间控制手段。文中研究了能实现薄膜参数最灵敏定义条件的测量方案。该方法已在参数已知的两种层状结构上得到验证,并用于毫米波波段(约50GHz)铁电(Ba,Sr)TiO3薄膜的特性表征。
作者: Igor Kotelnikov,Andrey Altynnikov,Anatoly Mikhaylov,Valentina Medvedeva,Andrey Kozyrev
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研究概述 实验方案 设备清单

描述一种采用准光学法布里-珀罗谐振腔,在毫米波波段无电极测量高介电常数薄膜复介电常数的技术。

基于准光学法布里-珀罗谐振腔开发的这项技术,可在毫米波频段精确测量高介电常数薄膜的介电常数和损耗角正切值,既适用于实验室研究,也适合量产中的快速控制测量。

主要误差来源与薄膜包含系数的准确定义有关。对于低介电常数的薄膜材料,介电常数的相对误差可达5%,损耗的相对误差可达10%。

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