研究目的
研究钪薄膜在W(100)表面的去润湿行为及其对热电子阴极的启示。
研究成果
??金属在W(100)基底上的去润湿现象发生在低于0.5倍熔点的多个温度区间,其中较薄膜层会在较低温度下形成更小的液滴。研究结果表明,由于钪在表面均匀分布(这种分布对于去润湿过程阻碍扩散传输的情况是必需的),合成含钪钨颗粒用于热电子阴极的方法是有效的。
研究不足
该研究聚焦于钪薄膜在W(100)表面的去润湿行为,这可能无法完全解释钪在钪酸盐阴极中的作用。去润湿温度范围和液滴尺寸与厚度相关,这可能限制研究结果在其他体系或条件中的适用性。
1:实验设计与方法选择:
采用热电子发射显微镜和光电子发射显微镜观察W(100)表面的钪元素。钪薄膜通过金属源热蒸发沉积在W(100)表面。
2:样品选择与数据来源:
使用W(100)单晶(纯度99.999%,直径9毫米,厚度0.25毫米)。通过反复氧气加热去除碳杂质,随后闪烧至1800摄氏度去除氧残留。
3:999%,直径9毫米,厚度25毫米)。通过反复氧气加热去除碳杂质,随后闪烧至1800摄氏度去除氧残留。
实验设备与材料清单:
3. 实验设备与材料清单:W(100)单晶、热蒸发装置、低能电子显微镜(LEEM)、石英晶体厚度监测仪。
4:实验流程与操作步骤:
在连接LEEM的独立腔室中,通过钨丝热蒸发将钪沉积于清洁的W(100)单晶表面。沉积完成后将单晶转移至LEEM进行观测。钪薄膜厚度通过配备石英晶体厚度监测仪的同条件蒸发腔室进行校准。
5:数据分析方法:
通过表面电子发射图谱分析润湿失效行为及液滴形成过程。
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