半导体制造行业中的化学品使用
DOI:10.1080/10773525.2018.1519957
期刊:International Journal of Occupational and Environmental Health
出版年份:2018
更新时间:2025-09-23 15:21:21
摘要:
背景:半导体行业虽使用多种化学品,但由于成分作为商业机密保密,具体使用的化学品鲜为人知。
目的:本研究旨在通过某大型半导体企业(运营A、B两家工厂)提供的安全数据表(SDS)和化学品清单,分析其化学品使用情况。
方法:对化学品产品及成分数量、光刻胶、国际癌症研究机构(IARC)分类的致癌物以及商业机密成分进行描述性统计,并根据化学品库存质量(千克)估算年用量。
结果:A、B两厂分别使用428种和432种化学品。剔除商业机密成分和重复计数后,纯化学品成分数量分别为189种和157种。含硫酸、儿茶酚和萘等致癌物的产品分别为47/428(A厂)和28/432(B厂)。光刻用化学品占全部化学品产品的21%(A厂)和26%(B厂),其中超97%含商业机密成分。
结论:A、B两厂人均年化学品用量分别为4.3吨和8.3吨。鉴于高度商业保密性及大量未受监管化学品的使用,半导体行业需实施更可持续的政策与方法以应对健康与安全问题。
作者:
Sunju Kim,Chungsik Yoon,Seunghon Ham,Jihoon Park,Ohun Kwon,Donguk Park,Sangjun Choi,Seungwon Kim,Kwonchul Ha,Won Kim