研究目的
研究垂直排列的纳米片状SnS2纳米结构与块体SnS2相比,对光注入载流子寿命和微观导电性的影响。
研究成果
在厚度小于50纳米的垂直SnS?纳米片中,载流子寿命和迁移率仅比块体单晶低两到三倍。阵列中最薄的纳米片最容易受到表面和边缘态的载流子俘获和/或复合影响。需要进一步开展瞬态电导测量和光电化学表征,以更深入地了解表面和边缘对载流子寿命及器件性能的影响。
研究不足
该研究的局限性在于,需要进一步对不同长度和厚度的纳米片阵列,以及边缘经有机配体钝化的阵列进行实验,才能充分阐明所观察到的载流子捕获或复合机制的本质。
1:实验设计与方法选择:
采用时间分辨太赫兹光谱技术(TRTS)表征SnS2纳米片和块体单晶中的载流子动力学。
2:样品选择与数据来源:
研究了通过近空间升华法在石英衬底上生长的约500纳米高、<50纳米厚的纳米片阵列,以及通过化学气相传输法制备的约2微米厚的块体SnS2单晶。
3:实验设备与材料清单:
太赫兹光谱装置、石英衬底、SnS2纳米片及单晶。
4:实验步骤与操作流程:
用400纳米波长、约170微焦耳/平方厘米的脉冲光激发块体和纳米结构SnS2,并测量太赫兹探测脉冲透射率随时间延迟的变化。
5:数据分析方法:
通过德鲁德模型和德鲁德-史密斯模型拟合电导率,分析复光电导特性。
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